Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9187393 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Hochleistungs-Photoresist-Ausrüstung für den Einsatz in Halbleiterherstellungsprozessen. Es verwendet laserinduzierte Exposition gegenüber Ätzmustern auf einem Wafersubstrat zur Verwendung bei der Herstellung elektronischer Halbleiterbauelemente. Das System ist mit einer fortschrittlichen Bildverarbeitungseinheit ausgestattet, die hochpräzise Muster mit Belichtungsfähigkeiten von 0,1 μ m oder besser erzeugen kann. Die Maschine basiert auf einer patentierten Laserquelle, einem optischen 10-W-Laserkopf, der eine schnelle und genaue Belichtung ermöglicht. Die Laserquelle ist ein energiereiches, wellenlängenstabilisiertes Laserwerkzeug, das in kürzester Zeit Zeichen, Linien und Geometrien mit hoher Präzision und einwandfreier Auflösung erzeugt. TEL ACT 12 verfügt außerdem über eine 12-Zoll-Fotomaske, die eine größere Auswahl an Fotolackoptionen und -belichtungen ermöglicht. Es ist mit einem Sieben-Zoll-quadratischen Maskenmuster ausgestattet, mit dem die Schaltung in den Wafer geschrieben wird. Das bildgebende Asset verwendet eine einzigartige „Template-driven“ -Technik, die die schnelle Herstellung höchst komplizierter Formen und Muster ohne menschliches Eingreifen ermöglicht. Das Modell hat eine einstellbare Maskenintensität, so dass die Ätzung genau und präzise gesteuert werden kann, ohne dass zusätzliche Lichtquellen benötigt werden. Neben den fortschrittlichen bildgebenden Geräten und der Laserquelle verfügt das System über eine automatisierte Prozesssteuerung, die so programmiert werden kann, dass sie eine hohe Ausbeute an zuverlässigen Schaltungen erzeugt. Die Waferausrichtung ist genau und die Auflösungspräzision wird konstant beibehalten. Das Gerät besteht ferner aus einer Wafer-Reinigungsstation und einem Flachbildschirm zur Steuerung und Überwachung des Abbildungsprozesses. TOKYO ELECTRON ACT12 ist eine fortschrittliche Halbleiterherstellungsmaschine, die entwickelt wurde, um hochgenaue und zuverlässige Schaltungen in kurzer Zeit zu produzieren. Sein leistungsstarkes, hochpräzises Bildgebungswerkzeug ermöglicht ein konsistentes und zuverlässiges Ätzen von Mustern auf Wafersubstraten und bietet eine ausgezeichnete Wahl für die Herstellung anspruchsvoller, hochleistungsfähiger elektronischer Halbleiterbauelemente.