Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9216584 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine von TEL Ltd. entwickelte Hochleistungs-Photoresist-Ausrüstung. Es verwendet Deep-UV-Licht für die Lithographie-Belichtung, die dann durch die optische Ausrichtung und Montage des Systems verarbeitet wird. Dies führt zu schnelleren Belichtungszeiten bei höherauflösender Bildgebung und Prozessgleichmäßigkeit, insbesondere in Kombination mit Top-of-the-Line-Belichtungseinheiten. Die Photolackeinheit verwendet mehrere Schichten aus Photolackmaterial, um das gewünschte Muster durch selektives Absorbieren und Ausstoßen von Licht in der Schicht zu bilden. In TEL ACT 12 wirkt ein flüssigkeitsfilmbildender Photolack als erste Schicht des mehrstufigen Resiststapels. Dieser Film wird dann dem Licht zum Photoätzen der molekularen Polymerketten innerhalb des Photolacks ausgesetzt. Dieser Belichtungsvorgang bewahrt das gewünschte Muster bei gleichzeitiger Maskierung derjenigen Elemente in der Folie, die nicht dem Licht ausgesetzt sind. Nach Belichtung wird die Photolackschicht mit dem Sekundärbelichtungsmaterial chemisch reagiert. Das Belichtungsmaterial, üblicherweise ein Elektronenstrahl, wirkt als Ätzmittel, um die Muster in der Photoresistschicht weiter zu verfeinern. Dieses Verfahren ermöglicht eine feinere Auflösungsabbildung, eine verbesserte Ätzsteuerung und eine höhere Kontrolle der Ätztiefe. Darüber hinaus können Elektronenstrahlen mehrere Schichten von Photoresists gleichzeitig genau und schnell ätzen. Schließlich wird der Entwicklungsprozess der Photolackschicht mit einer Nachentwicklungsspülung mit einer Entwicklerchemie abgeschlossen. Durch diese Spülung werden alle verbleibenden unbelichteten Bereiche der Photolackschicht entfernt. Dieser Nachentwicklungsprozess hinterlässt effektiv nur das gewünschte Muster in der Photolackschicht. Neben der erhöhten Auflösung bieten die Belichtungs- und Ätzverfahren von TOKYO ELECTRON ACT12 einen breiteren Belichtungsbereich und eine verbesserte Belichtungsgenauigkeit. Abschließend ist TEL ACT12 eine von TOKYO ELECTRON Ltd. entwickelte Hochleistungs-Photolackmaschine. Es ist in der Lage, schnellere Belichtungszeiten mit höherauflösender Bildgebung und Prozessgleichförmigkeit. Das Werkzeug verwendet einen mehrstufigen Resiststapel in Kombination mit tiefem UV-Licht, Elektronenstrahlbelichtung und Entwicklerchemie nach der Entwicklung, um das gewünschte Muster in der Photoresistschicht genau und schnell herzustellen und zu entwickeln. Darüber hinaus bietet dieser Photoresist einen breiteren Belichtungsbereich und eine verbesserte Belichtungsgenauigkeit.