Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9235799 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die üblicherweise in Mikrofabrikationsverfahren wie Photolithographie verwendet wird. Es verwendet einen flüssigen Photoresist, der auf das Substrat aufgebracht und dann einer UV-Lichtquelle ausgesetzt wird. Das UV-Licht bewirkt, dass der Photolack chemisch reagiert, in Bereichen, die dem Licht ausgesetzt sind, aushärtet und unbelichtete Bereiche weicher lässt. Dieser Prozess der Erzeugung einer strukturierten Oberfläche durch selektives Härten und Erweichen von Photolack wird als „Bilderzeugung“ bezeichnet. TEL ACT 12 ist ein hochentwickeltes System, das eine fortschrittliche Spin-Coat/Spray-Methode verwendet, um den Photolack gleichmäßig aufzutragen. Das Gerät umfasst einen Hauptprozessor, eine Waferheizung und eine Mehrfachspinnmaschine mit einem Spin-Coat/Sprühkopf. Der Hauptprozessor steuert die Temperatur und Feuchtigkeit des Werkzeugs während des Spin-Coat/Spray-Prozesses. Die Bilderzeugung wird mit der Belichtungsbox von TOKYO ELECTRON ACT12 abgeschlossen. Diese Box enthält sowohl ein projizierbares als auch maskenloses Belichtungsmittel, das stickstoffgespülte Optik verwendet, um jeden Dampfdruck zu reduzieren, der durch Wärme von der Lampe verursacht wird. Der Bilderzeugungsprozess wird ferner durch das Reflektorplattenmodell ACT 12 unterstützt, das Licht zwischen Belichtungskasten und Substrat reflektiert, um die gleichmäßige Belichtung des belichteten Substrats zu gewährleisten. Nachdem die Bilderzeugung abgeschlossen ist, hat TOKYO ELECTRON ACT 12 die Fähigkeit, das Substrat in einer Reinraumumumgebung zu entwickeln. Dies geschieht mit einem spezialisierten Sprühgerät, das den Entwickler effizient anwendet und den unbelichteten Photolack entfernt. Die Entwicklerausrüstung von TEL ACT12 hat auch die Fähigkeit, Fehler am Wafer schnell und genau zu erkennen. TEL/TOKYO ELECTRON ACT12 System ist eine effiziente und zuverlässige Einheit für photolithographische Prozesse. Seine fortschrittliche Spinn- und Sprühtechnologie sorgt dafür, dass der Photolack gleichmäßig auf das Substrat aufgebracht wird und seine projizierbare und maskenlose Belichtungsmaschine für eine gleichmäßige Belichtung des Substrats sorgt. Darüber hinaus ist sein Entwicklerwerkzeug in der Lage, alle auf dem Substrat vorhandenen Defekte schnell und genau zu erkennen.