Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9235800 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die zur Erzeugung fortschrittlicher Muster und Strukturen auf der Oberfläche eines Substrats entwickelt wurde. Photoresist ist ein Material, das in Reaktion auf Strahlung, in der Regel Licht oder UV-Licht, reagiert oder sich ändert und verwendet werden kann, um Muster oder Strukturen auf einer Oberfläche zu erzeugen. TEL ACT 12 ist so konzipiert, dass Benutzer das Muster und die Struktur auf der Substratoberfläche genau steuern können. TOKYO ELECTRON ACT12 ist als Belichtungssystem konzipiert und verfügt über ein Scanbelichtungsverfahren, so dass Benutzer das mit dem Photolack erzeugte Muster und die Strukturen genau steuern können. Es hat zwei Elektronenkanonen, eine für den Fotolack und die andere für die Rückseite. Die Kanonen können verwendet werden, um die Dosis der Strahlung, die verwendet wird, um den Photoresist zu belichten genau einzustellen. Die Belichtungszeit für den Photolack kann auch so eingestellt werden, dass die richtige Dosis verwendet wird. Neben seiner Präzision bei der Steuerung der Strahlenbelastung verfügt TEL ACT12 auch über hohe Durchsatzmöglichkeiten. Die Elektronenkanonen am Gerät können in weniger als 18 Sekunden bis zu 40 mm (1,6in) Substrat scannen. Dies bedeutet, dass große Flächen des Substrats in kurzer Zeit abgedeckt werden können, ohne die Genauigkeit des Verfahrens zu beeinträchtigen. ACT 12 hat auch mehrere Sicherheitsmerkmale. Es gibt Leckage-Monitore, die undichte Strahlung erkennen können, und einen Notfall-Verschluss, der das Substrat schützen kann, falls die Maschine stört und hohe Strahlung aussendet. Das Werkzeug ist auch entworfen, um die Menge an Abfall durch den Prozess zu minimieren. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON ACT 12 ein Photoresist-Asset, das die Strahlenbelastung einer Substratoberfläche präzise steuern soll. Mit seinen zwei Elektronenkanonen, hohen Durchsatzleistungen und Sicherheitsmerkmalen eignet sich das Modell perfekt für eine Vielzahl von Substraten und Musteranwendungen. Es ist eines der genauesten und zuverlässigsten Photoresist-Systeme auf dem Markt heute.