Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9239681 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12
ID: 9239681
Coater Track configuration 1: Coat cup (2) Developer cup ADH Track configuration 2: Resist reduction: RRC Dev nozzle: H Nozzle Resist pump: 10ml RDS Oven configuration: (2) PHP (4) CPL (5) LHP Track chemicals Resist supply: Gallon bottle, coat bottle Thinner: OK73.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die für die fortschrittliche Halbleiterproduktion entwickelt wurde. Das System integriert zwei Schlüsselkomponenten des Photolithographie-Prozesses; der Spin Coater und der Spray Coater. Eine Schleuderschicht trägt in einer gleichmäßigen Schicht Photolack auf den Wafer auf, während eine Sprühschicht den Photolack auf die mit dem Resistmuster bezeichneten Bereiche des Wafers aufsprüht. Mit der präzisen Steuerung des Aufbringens des Photolacks ermöglicht TEL ACT 12 eine schnellere Herstellung komplexer Schaltungen mit höheren Ausbeuten. TOKYO ELECTRON ACT12 Maschine verfügt über zwei Hauptkomponenten: den Spin Coater und den Spray Coater. Der Spin Coater verwendet hochpräzise Beschichtungsköpfe, um der Waferoberfläche Photoresistgas in einem gleichmäßigen Muster zuzuführen, wodurch sichergestellt wird, dass der Resist gleichmäßig aufgebracht wird. Darüber hinaus ist der Spin Coater in der Lage, mit unterschiedlichen Geschwindigkeiten zu spinnen, um eine gleichmäßige Verteilung auf unregelmäßig geformte und gekrümmte Wafer zu gewährleisten. An den durch das Resistmuster angedeuteten Stellen sprüht der Sprühlack Photolack auf den Wafer. Diese Sprühbeschichtung ist mit einer eingebauten Düse ausgestattet, die in der Lage ist, ein feines und gleichmäßiges Tröpfchensprühmuster zu erzeugen, das präzise Mengen an Photolack an den gewünschten Stellen abscheiden kann. TEL ACT12 Tool ist auch mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet, um den Photolithographie-Prozess schneller und effizienter zu machen. Die mechanische Präzision des Spinnlackierers und Sprühlackierers ermöglicht die Bearbeitung einer höheren Anzahl von Wafern in einem Zyklus; bis zu 15 Wafer pro Zyklus. Darüber hinaus verfügt die Anlage auch über ein fortschrittliches Modell zur Kontrolle der Temperatur und Feuchtigkeit des Resists während der Anwendung, wodurch das Risiko von Schmierereien oder schlechter Beleuchtung reduziert wird. Schließlich enthält das Gerät ein computergestütztes Überwachungssystem, das in der Lage ist, die Ergebnisse jedes Zyklus ständig zu überwachen, so dass Benutzer die Ergebnisse jedes Zyklus genau vorhersagen und nach Bedarf anpassen können. TEL/TOKYO ELECTRON ACT12 unit ist ein ideales Werkzeug für die Produktion von großvolumigen Halbleitern. Die Präzision des Spin Coater und Spray Coater sowie die innovativen Funktionen zur Überwachung des Photolithographie-Prozesses machen ACT 12 zu einer leistungsstarken und zuverlässigen Photolackmaschine.
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