Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9247862 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist ein von TEL (TOKYO ELECTRON) entwickeltes Photoresist-Gerät. Es wurde entwickelt, um eine wiederholbare, zuverlässige und genaue Herstellung von Schaltungen, Mustern und anderen Elementen auf Halbleiterscheiben, Substraten und anderen Oberflächen zu ermöglichen. Das System verwendet Photolithographie, um ein Muster auf eine Halbleiterscheibe oder ein Substrat zu übertragen und wird typischerweise zur Verarbeitung von mikroelektronischen Schaltungen, integrierten Schaltungen (ICs) und anderen Bauelementen verwendet. TEL ACT 12 Photolackeinheit umfasst drei Hauptkomponenten: die Maske Aligner Montage, die Entwicklungseinheit und die Exposure Controller. Die Mask Aligner Baugruppe enthält den Mask-Halter und Reticle Aligner Table, der die Fotomaske oder das Retikel auf das Substrat hält und ausrichtet. Die Entwicklungseinheit dient der Nachbelichtung der Resistfolien, die die Herstellung des Substrats für die Kontaktbelichtung und die Entwicklung, das Strippen und/oder das Backen umfasst. Die Belichtungsregler steuern und überwachen den Belichtungsprozess. Die Mask Aligner Baugruppe verwendet eine CCD (charge-coupled device) Kamera, um eine genaue Ausrichtung und Registrierung des Musters auf der Photomaske oder dem Retikel zu gewährleisten. Es ist mit Umgebungssensoren und Echtzeit-Positionsrückmeldung ausgestattet, um eine genaue Registrierung auf Waferebene zu gewährleisten. Die Entwicklungseinheit besteht aus einer Nassbearbeitungsstation, einer Trockenbearbeitungsstation und einer Backstation. Die Nassstation ist mit einem Wärmesensor ausgestattet, um eine genaue Temperaturregelung zu gewährleisten und sicherzustellen, dass die Resistfolie korrekt entwickelt wird. Die Trockenstation verwendet ein Vakuumfutter, um das Substrat zu halten und die Belichtungsparameter zu steuern. Die Backstation verwendet eine Heizung und Temperaturregelung, um ein gleichmäßiges Backen der Resistfolien zu gewährleisten. Die Expositionsregler sind für die Steuerung und Überwachung des Expositionsprozesses verantwortlich. Die Belichtungsparameter wie Belichtungszeit, Intensität und Wellenlänge können von den Exposure Controllern exakt gesteuert werden. Es bietet auch Echtzeit-Feedback für End-to-End-Prozesssteuerung und -optimierung. Der Benutzer kann auch Rezepte für die zukünftige Verwendung speichern, die es dem Bediener ermöglicht, denselben Belichtungsprozess mehrmals mit nur geringfügigen Änderungen zwischen den Läufen auszuführen. TOKYO ELECTRON ACT12 Photoresist Maschine bietet eine zuverlässige, wiederholbare und genaue Methode der Strukturierung auf Halbleiterscheiben und Substraten. Das Werkzeug ermöglicht Muster hoher Dichte und genaue Kontaktregistrierung, was zu einer verbesserten Schaltungsleistung führt. Das Asset kann auch zur Prozessoptimierung und Ertragssteigerung eingesetzt werden, was eine verbesserte Kosteneffizienz und Integration des Photolithographie-Prozesses bietet.