Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9250635 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die fortschrittliche Technologie nutzt, um hochwertige, lithographisch hergestellte Dünnschichtmuster auf integrierten Halbleiterschaltungen zu erzeugen. Dieses System, das auch als fortgeschrittene Photolithographieeinheit bekannt ist, ist so ausgelegt, dass kleinere Muster mit sehr hoher Geschwindigkeit erzeugt werden können. Die Maschine verwendet fortschrittliche Photoemitter, die auf extrem niedrige Temperaturen gekühlt werden, um die Photoemissionseffizienz zu verbessern. Mit diesen Photoemittern kann eine Waferschicht mit ultraviolettem oder anderem Lichtstrahl beleuchtet werden, die dann mit einer chemischen Beschichtung auf dem Wafer reagiert. Die Lichtstrahlen werden mit Hilfe von Hochleistungs-Laserdioden erzeugt und deren Ausgänge mit Hilfe fortschrittlicher Optik gesteuert. Die Photoemitter ermöglichen auch eine sehr enge Fokussierung, wodurch sehr kleine Merkmalsgrößen in Verbindung mit den entsprechenden Maskierungstechniken erreicht werden können. TEL ACT 12 Werkzeug verwendet auch fortschrittliche hochwertige Linsen, die mit überlegenen Materialien und Know-how hergestellt werden. Diese Linsen sind so ausgelegt, dass sie eine äußerst präzise Bildgebung ermöglichen, was für die Herstellung komplexer Mikrofeaturen wichtig ist. Die Linsen ermöglichen auch ein sehr weites Sichtfeld und extrem lange Arbeitswege, ohne optische Verzerrungen oder Geisterbilder zu verursachen. Darüber hinaus kann das Gut auch in Kombination mit fortgeschrittenen Nass- oder Trockenlithographieverfahren eingesetzt werden, wodurch noch kleinere Merkmalsgrößen hergestellt werden können. Dies wird erreicht, indem eine Mischung aus innovativen Resists, Photoresist-Slurries, chemischen Behandlungen und anderen Techniken verwendet wird, um Muster effektiv auf den Wafer zu übertragen. Schließlich ist TOKYO ELECTRON ACT12 Modell äußerst zuverlässig und präzise, mit fortschrittlichen Subsystemen, was bedeutet, dass es in der Lage ist, Muster über verschiedene Wafer zuverlässig zu wiederholen. Zusammen mit der Verwendung fortschrittlicher Optik und anderer Funktionen ist es eines der fortschrittlichsten verfügbaren Photolithographiesysteme, das sich perfekt für die Erstellung komplexer integrierter Schaltungen eignet.