Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9251329 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Hochleistungs-Photoresist-Ausrüstung für fortschrittliche lithographische Anwendungen. Photoresist ist das wichtigste Material in der Halbleiterverarbeitung, und TEL ACT 12 wurde entwickelt, um die höchste Leistung und Reproduzierbarkeit zu bieten. TOKYO ELECTRON ACT12 wurde entwickelt, um eine präzise gesteuerte Photolackbeschichtung mit Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer bereitzustellen. Es ist ein modulares System, das so konfiguriert werden kann, dass es den Anforderungen einer beliebigen Anwendung entspricht. Zu den Kernkomponenten der Einheit gehören zwei Abscheidekammern für die Photolackbeschichtung, ein Schleudertrockner, ein Backofen, zwei Nachbeschichtungsreinigungsstationen und ein spezieller Zehn-Port-Kassettenlader. TEL ACT12 verwendet eine Vielzahl fortschrittlicher Technologien, um eine hochpräzise Photoresist-Abscheidung zu gewährleisten. Diese schließen einen programmierbaren Absetzungskopf, Laser interferometer Feedbackmaschine, temperaturkontrollierter Trockner, Drehungsspülungstrockner und ein automatisches TELEFON-OPTIK-Werkzeug für die genaue Überzugkontrolle ein. Die Anlage verfügt außerdem über ein hochpräzises fünfstufiges Wafer-Vakuumfutter, das präzise und konsistente Ergebnisse gewährleistet. TOKYO ELECTRON ACT 12 ist in der Lage, bis zu 4.000 Wafer pro Stunde zu beschichten und kann für verschiedene Photoresistfilme unterschiedlicher Dicke konfiguriert werden. ACT 12 wurde entworfen, um eine überlegene Reinheit nach der Beschichtung zu gewährleisten, mit zwei eingebauten Reinigungsstationen. Die Kammern sind speziell entwickelt, um Dünnfilmrückstände und andere Oberflächenverunreinigungen effizient zu entfernen, während der Nachbeschichtungsofen alle Reststoffe und Verunreinigungen entfernt, die während des Beschichtungsprozesses übrig geblieben sind. TEL/TOKYO ELECTRON ACT12 ist mit fortschrittlicher Software TOKYO ELECTRON ausgestattet, die eine manuelle und programmierte Steuerung aller Modellparameter ermöglicht. Die Software ermöglicht eine präzise Steuerung der Fotolackabscheidung sowie die Speicherung und Analyse von Daten aus mehreren Läufen. ACT12 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die zuverlässige, präzise und wiederholbare Ergebnisse für photolithographische Anwendungen liefert. Seine leistungsstarken Eigenschaften, einschließlich programmierbarer Abscheidekopf, Laser-Interferometer-Feedback-System, Temperaturregler, Spin-Spültrockner, automatische Optik-Einheit, fünfstufige Wafer-Vakuum-Spannfutter und Nachbeschichtung Sauberkeit garantiert hervorragende Ergebnisse. Und mit fortschrittlicher Software TEL/TOKYO ELECTRON kann die Maschine verwendet werden, um alle Beschichtungsparameter zu steuern und zu analysieren.