Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9255021 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die in Photolithographie- und Ätzprozessen verwendet wird. Dieses System wird vor allem bei der Herstellung von Leiterplatten eingesetzt, da es eine sehr präzise Strukturierung des Substratmaterials ermöglicht. Die Einheit besteht aus einer Photolackschicht, Kontaktmaske, Belichtungseinheit und Entwicklereinheit. Die Photolackschicht ist das Element, mit dem das Licht oder die Strahlung interagiert. Die Photolackschicht ist eine dünne, strahlungsempfindliche Materialschicht, reagiert also, wenn Licht oder Strahlung durch die Kontaktmaske gelangt, mit dem Photolack, um eine chemische Veränderung zu bewirken. Diese Transformation ist spezifisch für das Energieniveau der Strahlung, so dass die Verwendung einer Kontaktmaske mit verschiedenen Energieniveaus eine selektive Entfernung und Veränderung der Photolackschichten ermöglicht. Die Kontaktmaske selbst besteht üblicherweise aus einem Glas-, Quarz- oder Metallsubstrat, auf dem bestrahlte Bilder aufgedruckt werden. Dadurch entstehen selektiv belichtete Bereiche auf der Photolackschicht, die die Erzeugung bestimmter Muster ermöglichen. Die Kontaktmaske wird direkt über die Fotolackschicht gelegt. Die Belichtungseinheit ist das Element, auf das die Kontaktmaske aufgesetzt ist. Diese Einheit emittiert die für die Änderung des Photolacks erforderliche Strahlung. Je nach Art der verwendeten Strahlung und den Einstellungen können unterschiedliche Effekte erzielt werden. Die Strahlung wird variiert, um eine erhöhte Genauigkeit des zu erzeugenden Musters zu ermöglichen. Das letzte Stück von TEL ACT 12 ist schließlich die Entwicklereinheit. Dies wird nach vollständiger Strahlenbelastung verwendet. Die Entwicklereinheit arbeitet, indem belichtete Teile der Photolackschicht entfernt werden und die unbelichteten Teile intakt bleiben. Dies ermöglicht eine sehr präzise Strukturierung des Substratmaterials. Abschließend ist TOKYO ELECTRON ACT12 eine komplexe und hochgenaue Photolithographie-Maschine, mit der präzise Muster auf Substraten erzeugt werden können. Durch die Verwendung eines gezielt abgestimmten Strahlungsniveaus und einer Kontaktmaske kann eine selektive Entfernung und Veränderung von Photolackschichten erreicht werden, wodurch sehr aufwendige Leiterplatten hergestellt werden können.