Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9270889 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von führenden Mikroelektronik-Unternehmen bei der Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen empfindlichen elektronischen Komponenten verwendet wird. Es ist ein vielseitiges, hochpräzises Lithographiesystem, das mittels elektromagnetischer Strahlung wie ultraviolettem Licht oder Elektronen ein Muster auf ein lichtempfindliches Material aufdrückt. TEL ACT 12 Einheit verwendet einen ausgeklügelten Mechanismus von mechanischen Stufen und Vakuumplatten, um feine Auflösungen und Tiefenschärfe zu erzeugen. Mit einer beweglichen, zweiachsigen präzisen mechanischen Stufe wird der Photolackwafer ausgerichtet und bewegt. Seine Genauigkeit gewährleistet qualitativ hochwertige Ergebnisse unabhängig davon, ob der Wafer groß oder klein ist. Die Bühne kann sich in X- und Y-Richtung bewegen und kann eine Genauigkeit von bis zu 0,0001 Mikron erreichen. Eine Vakuumplatte hält dann das Substrat während der Abbildungen fest, so dass sich der Wafer während des Abbildungsprozesses nicht bewegt. Der Photolack wird mit einer automatisierten Chemiemaschine aufgebracht, die den benötigten Resist in vorgegebenen Mustern präzise auf das Substrat abgibt. Dieser Resist schützt das Substrat während der Photolithographie. Der Abgabeprozess wird von einem Computer gesteuert, um Genauigkeit, Wiederholbarkeit und effizienten Einsatz der Chemikalien zu gewährleisten. Das bildgebende Werkzeug besteht aus einem vakuumdichten, projektionsartigen Lithographiewerkzeug, das ultraviolettes Licht verwendet, um das Muster von einer Maske auf den Fotolack zu übertragen. Bei großen Substraten ist das Werkzeug in der Lage, eine minimale Genauigkeit von 11 µm und eine Auflösung von 0,35 µm zu erreichen. Es ist für die Produktion mit hohem Durchsatz ausgelegt. TOKYO ELECTRON ACT12 Asset bietet auch automatisierte Fehleranalyse und -erkennung. Diese Funktion verwendet ausgeklügelte Software-Algorithmen, um Fehler im Muster zu ermitteln, sodass Hersteller Fehler schnell und effizient erkennen und beheben können. Das Modell TEL Photoresist ACT 12 wurde entwickelt, um Herstellern hochpräzise, wiederholbare Lithographie- und Bildgebungsergebnisse zu liefern. Dies gewährleistet höchste Genauigkeit und Wiederholbarkeit bei der Herstellung und Herstellung mikroelektronischer Bauteile.