Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9281479 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die in der Halbleitersubstratverarbeitung verwendet wird. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Prozessen durchzuführen, einschließlich Sputtern, Ionenimplantation, Waferreinigung, Ätzen und vieles mehr. Das System verwendet eine lichtaktivierte chemische Reaktion, um die Oberfläche des Wafers zu formen. Es wurde entwickelt, um hochpräzise Dünnschichtgeräte mit einer hohen Dichte von Merkmalen herzustellen. TEL ACT 12 vereint die Vorteile von Photolithographie und Plasmaätzen. Photolithographie ist eine Technik zur Strukturierung der Oberfläche eines Materials, indem sie einer Strahlungsquelle ausgesetzt wird. Die Strahlung bewirkt chemische Veränderungen im belichteten Bereich, wodurch feine Muster hergestellt werden können. Plasmaätzen ist ein Verfahren, bei dem eine Plasmaumgebung zum Ätzen der Oberfläche des Zielmaterials verwendet wird. Die Kombination dieser beiden Verfahren ermöglicht es TOKYO ELECTRON ACT12, komplizierte Nanometer-Merkmale mit hoher Präzision und Genauigkeit zu schaffen. Die Photolackschicht des ACT 12 wird auf die Oberfläche des Wafers aufgebracht und einer Maske ausgesetzt, die das gewünschte Muster enthält. Nach dem Entfernen der Maske wird eine separate Lichtquelle (üblicherweise UV- oder E-Strahl) zur direkten Abbildung des Musters verwendet. Eine spezielle Beschichtung dient dann zum Schutz der Photolackschicht und ermöglicht ein kontrolliertes Ätzen des Wafers. Anschließend wird die Maschine auf eine hohe Temperatur erhitzt, um die chemische Reaktion der belichteten Photoresistschicht zu aktivieren. Die Strukturierungsreaktion ergibt einen dünnen Photolackfilm, der auf dem Wafer verbleibt. Der verbleibende Photolack kann dann mit einem entsprechenden Lösungsmittel entfernt werden. Schließlich kann das Werkzeug für alle vorgenannten Verfahren, wie z.B. Sputtern oder Ionenimplantation, verwendet werden, um das gewünschte Muster oder Gerät zu erzeugen. Der gesamte Prozess wird mit dem Software-Asset von TOKYO ELECTRON ACT 12 gesteuert, das die Qualitätskontrolle während des gesamten Prozesses gewährleistet. Abschließend ist TEL ACT12 ein fortschrittliches Photoresist-Modell, das hochpräzise und komplizierte Nanometermerkmale erzeugen kann. Die Kombination aus Photolithographie und Plasmaätzung ermöglicht die Herstellung empfindlicher Geräte für eine Vielzahl von Anwendungen. Die vom System zur Verfügung gestellte Softwareausrüstung ermöglicht eine vollständige Kontrolle des Prozesses und gewährleistet eine durchgängige Qualitätskontrolle.