Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9313699 zu verkaufen
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ID: 9313699
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
System, 12"
Wafer type: Notch
Right to left
Loading configuration: (4) Loaders
Cassette type: FOUP
Main controller missing
Main system:
Mainframe with system controller
(4) Cassettes
(25) Slots
Coater unit (2-1, 2-2 Modules):
(4) Dispense nozzles with temperature controlled lines
RDS Pump
PR Suck-back valve: (8) Auto suck-back valves
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit
Rinse system: 3-Liters (2) buffer tank systems
Thinner supply: CCSS
Programmable side rinse:
(4) PR Nozzles
(8) Bottles: (2) Bottles / (2) Nozzles
BCT Unit (2-3,2-4 Modules):
(4) Dispense nozzles with temperature controlled line
RDS Pump
PR Suck-back valve: (8) Auto suck-back valves
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for each unit
Rinse system: 3-Liters (2) buffer tank systems
Thinner supply: CCSS Canister tank
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4 Modules):
NLD Nozzle / Unit
(2) System nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
Developer system: 3-Liter (2) buffer tank systems
Developer supply: CCSS
Developer temperature control system
ASML I/F Wafer stage
(2) Adhesion units (ADH):
Sealing closed chamber with Built-in hot plate
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply: Local bottle
(4) Low temperature Hot Plates (LHP)
(3) High temperature Hot Plates (HHP)
(9) Chill plates (TCP)
(12) Precision Hot Plates (PHP)
(2) TRS Units
(2) Wafer Edge Exposure (WEE) Units
(2) Temperature Control Units (TCU)
OEM Type
Temperature control units (TCU) MFC controller
Chemical cabinets:
Cabinet 1: HNDS And solvent cabinet
Cabinet 2: DEV Solution chemical cabinet
Missing parts:
Main controller
T and H Controller
AC Power supply: 200/220 VAC, 668 A (Full-load Ampere)
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine von TEL. Es wird zur Herstellung von Mikro- und Halbleiterbauelementen verwendet. Das System strukturiert die gewünschten Merkmale mittels eines Photolithographieverfahrens auf einen Wafer und ätzt sie in eine Metallschicht. Bei diesem Verfahren wird eine für UV-Licht empfindliche Photolackschicht gegen das Muster belichtet. Die Bereiche, die dem Licht ausgesetzt sind, werden hart, während die übrigen Bereiche löslich bleiben. Die harten Bereiche wirken als Ätzmaske, und der Wafer wird unter Verwendung des von der Photolackschicht gebildeten Musters geätzt. TEL ACT 12 bietet einen genauen und wiederholbaren Musterbildungsprozess. Es hat eine hohe Auflösung von 0,25 Mikron und eine Feldgröße von 5 mm. Die Einheit kann auch doppelte Belichtungszyklen in einem Durchgang durchführen, wodurch komplexe Muster gebildet werden können. Die Maschine ist modular und flexibel konzipiert und bietet eine Reihe von optionalen Funktionen, die dem Werkzeug hinzugefügt werden können, um seine Funktionalität zu verbessern. Zusätzlich hat TOKYO ELECTRON ACT12 eine schnelle Belichtungszeit mit einer Belichtungszeit von nur 2 Sekunden pro Wafer. Dadurch kann ein hoher Waferdurchsatz in kurzer Zeit bearbeitet werden. TOKYO ELECTRON ACT 12 verwendet auch lineare Scan-Technologie, um eine gleichmäßige Dosis von UV-Licht über das Substrat zu gewährleisten. Dadurch können glattere und genauer definierte Merkmale gebildet werden. Darüber hinaus verfügt das Asset über einen integrierten Computer, der alle relevanten Belichtungsparameter enthält und an die Bedürfnisse des Benutzers angepasst werden kann. Insgesamt ist ACT 12 ein zuverlässiges und effizientes Werkzeug für die Herstellung von Mikro- und Halbleiterbauelementen. Seine hohe Auflösung, schnelle Belichtungszeit, hoher Durchsatz, flexibles Modelldesign und UV-lineares Scannen machen es zu einer idealen Wahl für Profis in der Branche.
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