Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9351398 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist ein Photoresist-Gerät, das einen hochenergetischen Elektronenstrahl zur Belichtung eines Photoresist-Films verwendet. Der Photolack dient dann der Herstellung einer Vielzahl von elektronischen Geräten und Geräten mit Nanometergenauigkeit. Dieses System nutzt die Eigenschaften einer direkt schreibenden Elektronenstrahl-Lithographie (DWEL) -Einheit zur Belichtung von Photoresistfilmen. Die Maschine verwendet eine Elektronenkanone, die mit einem speziellen Filament aufgebaut ist, das Elektronen emittiert. Die erzeugten Elektronen werden durch die Pistole durch ein elektrisches Hochspannungsfeld beschleunigt, was zu einem energiereichen Elektronenstrahl führt, der auf den Fotolackfilm trifft. Die Energie des Elektronenstrahls wird mit einem Energieanalysator überwacht, der auch den Elektronenstrahl steuern kann. Der Energiebereich der Systeme liegt zwischen 10 und 600 KeV, die Spotgröße zwischen 50nm und 0,5 μ m. Die Elektronenstrahlbelichtung folgt einer aktinischen Belichtung, die darin besteht, die Strahlspannung und den Strom, ihre Punktgröße und die Belichtungsdauer zu steuern. Darüber hinaus ist das Werkzeug in der Lage, die Belichtungsdosis durch Steuerung der Stromdichte und der Position des Elektronenstrahls genau zu steuern, so dass die Mustergeometrie und die Merkmale genau und gleichmäßig belichtet werden. Die Fotoresistfolie verwendet ein zweistufiges Abscheideverfahren, bei dem ein auf der Folie spin-coatierter Standard-Photoresist verwendet wird, der dann selektiv dem Elektronenstrahl ausgesetzt wird. Danach werden die belichteten Bereiche entwickelt und zur Strukturierung der elektronischen Bauteile verwendet. Darüber hinaus ermöglicht die Art des Photoresist-Assets eine höhere räumliche Auflösung, wodurch komplizierte Details der hergestellten elektronischen Komponenten erhalten bleiben. Dieses Modell eignet sich für die Konstruktion sehr kleiner elektronischer Komponenten, die von der hohen Energie des Elektronenstrahls und der kleineren Punktgröße profitieren, was eine höhere Auflösung und Genauigkeit bei der Herstellung ermöglicht. Darüber hinaus verfügt das Gerät über einen Schablonenvorprogrammierer zum Aufzeichnen und Speichern von Mustern von elektronischen Geräten, die zuvor konstruiert wurden, um ein einfaches Abrufen und Herstellen von Geräten zu ermöglichen. Als solches eignet sich dieses System für Anwendungen wie Quantenpunktherstellung und Nanostrukturen. Die Kosten der Einheit ist auch angemessen, so dass es eine attraktive Wahl für diejenigen, die kleine elektronische Komponenten zu produzieren.