Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9364744 zu verkaufen
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ID: 9364744
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
(4) Coater / (4) Developer system, 12"
Wafer type: Notch
Right to left
Loading configuration: (3) Uni cassettes
Cassette type: FOUP
Inline
CSB
PRB1
PRB2
IFB
AC Power box
(2) Chemical boxes
Main controller
25-Slots
Coater unit (2-1, 2-2 Modules):
(4) Dispense nozzles with temperature controller lines
RDS Pump
PR Suck-back valve: (8) Auto suck-back valves
Manual drain
Programmable side rinse: CCSS Thinner supply
BCT Unit (2-3,2-4 Modules):
(2) Dispense nozzles with temperature controller line
RDS Pump
PR Suck-back valve: (4) Auto suck-back valves
Rinse system: 3-Liters (2) buffer tank systems
Manual drain
Programmable side rinse:
Thinner supply: CCSS
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4 Modules):
NLD Nozzle / Unit
(2) Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
Developer system: 3-Liter (2) buffer tank systems
Developer supply: CCSS
Developer temperature controller
Direct drain
ASML I/F Wafer stage
Temperature Control Unit (TCU)
(2) Chemical cabinets
T and H Controller missing
Power supply: AC 208 V, 3 Phase
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 Photoresist Equipment ist eines der führenden Systeme für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Dieses System ist für die Entwicklung und Herstellung von Dünnschichten ausgelegt, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen wie CPUs, GPUs, Speichern und anderen Komponenten verwendet werden. Es bietet eine präzise Dünnschichtverarbeitung, die für die erweiterte Geräteintegration erforderlich ist, und verfügt über leistungsstarke Funktionen zur Feinabstimmung der Dünnschichtbildung. TEL ACT 12 ist mit einem leistungsstarken Elektronenstrahl zur Photoresistmusterung und einer hochpräzisen Belichtungsstufe zur präzisen Positionierung und Strukturierung des Dünnfilms ausgestattet. Mit der einzigartigen Dual Beam Mapping Machine (DBMS) ist das Werkzeug in der Lage, hohe Gleichmäßigkeit und Genauigkeit bei der Dünnschichtbildung zu liefern. Das DBMS ermöglicht die gleichzeitige Detektion und Analyse der Elektronenstrahl-Dosisverteilung über die gesamte Fläche der Probe und ermöglicht eine hochauflösende Ansicht des Dünnschichtmusters. TOKYO ELECTRON ACT12 verfügt auch über eine hochpräzise Stufe und mehrere Musteralgorithmen zur Optimierung der Mustererzeugung sowie über leistungsfähige Software zur Überwachung und Diagnose von Belichtungsbedingungen. Die Anlage unterstützt eine Vielzahl von Photolackmaterialien und ermöglicht die Verarbeitung verschiedener Muster komplexer Strukturen. Das Modell unterstützt auch eine Reihe weiterer Optionen, darunter thermische Steuerung, mehrachsige Ausrichtung und Komponentenschutz. Mit seiner Kombination aus Präzision, Leistung und fortschrittlichen Eigenschaften ist ACT12 Photolackausrüstung die perfekte Lösung für die Herstellung von High-End-Halbleiterbauelementen. Das System bietet höchste Leistung und Genauigkeit und ermöglicht es Geräteherstellern, die feinsten und fortschrittlichsten Halbleiterbauelemente auf dem Markt zu produzieren. Es bietet auch eine extrem niedrige Betriebskosten, so dass es eine ideale Wahl für jede Produktionsumgebung.
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