Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9377247 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung für Lithographieverfahren. Dieses System verwendet reaktive Chemie, um ein Layoutmuster auf ein Substrat wie einen Wafer zu übertragen. Der gesamte Prozess basiert auf einem Prozess namens Photolithographie, bei dem Licht verwendet wird, um ein Muster von einer Maske auf einen Wafer zu übertragen. Das Verfahren beginnt damit, daß ein lichtempfindliches Material, auch Photoresist genannt, auf den Wafer aufgebracht wird. Dieser Photolack wird Licht ausgesetzt, das als Maske dient. Wenn der Wafer in einer Reihe von Chemikalien entwickelt wird, bleiben nur die Bereiche auf dem Wafer, die dem Licht ausgesetzt waren. TEL ACT 12 ist eine hochentwickelte Einheit, die in der Lage ist, das von einem Excimerlaser verwendete ultraviolette Licht zu steuern, was eine präzise Steuerung der Belichtungsdauer und -intensität ermöglicht. Durch diese Kombination fortschrittlicher Steuerungsfunktionen können präzise und komplizierte Muster auf den Wafer gedruckt werden. Die Maschine wird von einem computergesteuerten Wafer-Schrittscanner betrieben, der für die genaue Positionierung des Wafers verantwortlich ist, so dass die Maske genau auf das Schaltungsmuster des Wafers ausgerichtet ist. Dieser Schrittabtaster hat auch die Möglichkeit, die Position der Fotolackmaske für den Fokus zu steuern, um sicherzustellen, dass das genaue Muster auf den Wafer gedruckt wird. Der Photolack wird dann in einem Entwickler entwickelt, wo sich die belichteten Teile des Photolacks auflösen, was zu einem sogenannten „entwickelten“ Photolack führt. Dieses Verfahren ermöglicht ein präzises Ätzen der verschiedenen Schichten in einer integrierten Schaltung. TOKYO ELECTRON ACT12 Tool kann eine breite Palette von Substraten aufnehmen, von hochreinen Silizium-Wafern bis hin zu Quarz und Glas, und kann eine Vielzahl von Schrittscanner-Prozessen integrieren, um verschiedene Lithographie-Anwendungen zu passen. Seine Fähigkeit, gleichzeitig zahlreiche Prozesse durchzuführen, hat es zu einem unverzichtbaren Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen gemacht. Zusammenfassend ist ACT12 ein photolithographisches Gut, das ultraviolettes Licht und reaktive Chemie verwendet, um Muster präzise auf ein Substrat zu ätzen. Dieses Modell ist sehr vielseitig einsetzbar und kann eine breite Palette von Substraten aufnehmen, von hochreinen Siliziumwafern bis hin zu Quarz und Glas, und kann eine Vielzahl von Schrittscannerprozessen für verschiedene Lithographieanwendungen integrieren.