Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9402603 zu verkaufen

Eine TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 Photoresist-Ausrüstung ist ein lithographisches System zur Herstellung von Halbleiterscheiben. Die Einheit verwendet einen lichtempfindlichen Film, den sogenannten Photoresist, um die Oberfläche eines Wafers chemisch zu modifizieren. Es verwendet ultraviolettes (UV) Licht, um den Photolack selektiv zu beeinflussen, was die Bildung von strukturierten Schichten auf der Oberfläche des Wafers ermöglicht. TEL ACT 12 Maschine besteht aus vier Hauptkomponenten: Lichtquellen, Steuerwerkzeug, Resist Applikator und Bühne. Die Lichtquellen verwenden Lampen und Lichtleiter, um gleichmäßig UV-Licht auf die Oberfläche des Wafers aufzutragen. Das Steuerungsmodell des Asset enthält mehrere Steuerungsfunktionen, wie programmierbare Methoden zur Steuerung der Lichtintensität und softwaregesteuerte Zeitmods. Der Resist-Applikator ermöglicht die Beschichtung des Photolacks auf den Wafer und steuert die Dicke der Folie. Die Bühne dient dazu, den Wafer präzise so zu bewegen, dass das UV-Licht die gesamte Oberfläche abdecken kann. Das UV-Licht von TOKYO ELECTRON ACT12 kann fokussiert werden, um sowohl ein- als auch mehrschichtige Designs auf dem Wafer zu erstellen. Dies ermöglicht eine breite Palette von Gerätedesigns, von Mikrochips mit Mikrometer-Eigenschaften bis zu dünnen Schichten von Molekülen. Darüber hinaus bietet sein fortschrittliches Steuersystem eine hohe Genauigkeit, um die gleichmäßige Abscheidung von Resist zu gewährleisten. ACT12 Einheit verwendet erweiterte Funktionen wie automatische Mustererkennung (APR) und Autofokus-Korrektur, um Präzision und Genauigkeit zu gewährleisten. APR ist ein Verfahren zur Erfassung von Musteränderungen, die während der „Belichtungsphase“ der UV-Lichtquellen entstehen. Autofokuskorrektur ist ein Algorithmus, der kleine Abweichungen in der Höhe des UV-Lichts korrigiert, was zu einem gleichmäßigen Muster im gesamten Wafer führt. Abschließend ist TOKYO ELECTRON ACT 12 Photoresist Machine ein leistungsfähiges Werkzeug, das in der Halbleiterwaferbearbeitung eingesetzt wird. Es verwendet UV-Lichtquellen, einen Resist-Applikator und ein hochentwickeltes Kontrollwerkzeug, um einheitliche und genaue Muster zu erstellen. APR und Autofokus Korrektur führt zu einem zuverlässigen und effizienten Betrieb, ermöglicht die Herstellung von komplexen Geräten.