Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 SOG #9105809 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 SOG (Sub-Micron Optical Grating) ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung, die speziell für die Herstellung von Submikron-Merkmalen entwickelt wurde. Es verwendet fortschrittliche optische Gittertechnologie, um hochauflösende Muster von bis zu 20 nm auf die Oberfläche von Halbleiterscheiben zu übertragen. Mit dem Photolack werden dann Submikronstrukturen, Linien und Lücken für die Geräteherstellung erzeugt. TEL ACT 8 SOG hat die Fähigkeit, Merkmale mit extrem hoher Auflösung zu produzieren, und kann ein Muster mit einer Tiefe von 20nm auf einem Halbleiterwafer genau reproduzieren. Dies ermöglicht die Herstellung extrem präziser Bauteile mit extrem hoher Genauigkeit. Dies ist der Schlüssel zur erfolgreichen Herstellung von hochdichten Speicherchips und Halbleiterbauelementen wie NAND-Speicher, die eine hochauflösende Photolithographie erfordern, um die ultrakurzen Bauteilbreiten zu erzeugen. Das System verwendet eine langlebige Hochleistungs-Laserquelle, um eine Beleuchtung für eine möglichst hohe Auflösung bereitzustellen, und dies wird mit einer CCD-Kamera mit hohem Dynamikbereich und einer Ausrichteinheit mit geschlossener Schleife für eine genaue Ausrichtung des Fotolacks auf den Wafer kombiniert. Mit dieser Einrichtung lassen sich Muster mit höchster Genauigkeit und Klarheit herstellen. Die Photoresist-Maschine verfügt über ein fortschrittliches Multilayer-Kompensationsmodul, das mithilfe optischer Beugungsmodelle das Gitterdesign präzise anpasst und korrigiert und es ermöglicht, Muster mit extrem flachen Winkeln und Formen zu erzeugen. Das Muster kann eingestellt werden, um Korrekturen vorzunehmen, wenn ein Muster auf die spezifischen Bedürfnisse des Geräteherstellungsprozesses optimiert wird. TEL ACT 8 Werkzeug verfügt auch über eine Antireflexbeschichtung Modul, die Störungen durch reflektiertes Licht zu reduzieren hilft, ermöglicht höheren Kontrast und schärfere Seitenwände für die Herstellung von besser auflösenden Geräten. Das Asset verwendet auch eine erweiterte maskenlose Operation, um das Muster des Fotolacks zu steuern. Diese Funktion ermöglicht es, Muster zu erzeugen, ohne dass Masken erforderlich sind, wodurch die Prozesszeit und die Komplexität erheblich reduziert werden. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON ACT 8 SOG ein fortschrittliches Photoresist-Modell, das die Herstellung von hochauflösenden Geräten mit extrem hoher Genauigkeit und sogar extrem flachen Winkeln und geformten Strukturen ermöglicht. Diese Ausrüstung kann die Prozesszeit und -kosten erheblich reduzieren und die Qualität von Halbleiterkomponenten erheblich verbessern.