Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9127707 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 Photoresist-Ausrüstung ist ein leistungsfähiges Werkzeug für diejenigen, die präzise Nanoskala-Lithographie-Herstellung in der Mikroelektronik-Industrie erfordern. Das System ist so konzipiert, dass dünne elektronische Bauteile auf verschiedensten Substraten geätzt werden können. Das Gerät kann Eigenschaften bis zu 400 Nanometer in der Größe genau ätzen, was außergewöhnlich klein ist. Durch die Verwendung einer Photomaske, um den Wafer vor Widerstandslicht zu schützen, kann die Maschine Elemente auf dem Substrat genau definieren. TEL ACT 8 Photoresist-Tool hat drei Hauptkomponenten: einen Wafer-Handler, ein einheitliches digitales Mikromirror-Gerät (DMD) und eine proprietäre zweidimensionale (2D) Bildgebungssoftware. Der Wafer-Handler ist der Hauptbestandteil der Anlage und für die sichere Handhabung des Wafersubstrats verantwortlich. Es ist mit einem thermischen Spannfutter ausgestattet, um eine konstante Temperatur zu halten, um ein gleichmäßiges Ätzen im gesamten Substrat zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt der Wafer-Handler über eine spezielle Optik, die sowohl über ein automatisiertes als auch über ein z-Höhe-Scanmodell verfügt. Die einheitliche DMD ist eine erweiterte Komponente, die zur programmierten Maskierung verwendet wird. Es umfasst zwei separate Komponenten - eine transparente Optikkomponente und eine zweidimensionale bildgebende Komponente. Die erste Komponente bietet eine extrem schnelle Auflösung bei Nanometergenauigkeit, während die zweite Komponente die Stabilität der Phasenfokussierung während der Exposition garantiert. Dieser Mechanismus gewährleistet ein gleichmäßiges, genaues Ätzen des Substrats. Der letzte Teil der TOKYO ELECTRON ACT 8 Photoresist-Ausrüstung ist die proprietäre 2D-Bildgebungssoftware. Diese Software ermöglicht präzise Bildgebung mit microlITHO-Skripting - ein leistungsstarkes Tool, das verwendet wird, um Masken für das Gerät zu entwerfen und zu verfeinern. Es verfügt auch über Autokorrekturfunktionen, die Bilder während der Bildgebung und beim Ätzen anpassen können, um das perfekte Design zu garantieren. Das Photoresistsystem TEL ACT 8 bietet viele Vorteile gegenüber früheren Systemen. Mit seiner nanoskaligen Auflösung und der automatisierten Bildgebung eignet sich das Gerät perfekt für die nanoskalige Lithographie und Herstellung ultradünner Komponenten und Substrate. Damit ist die Maschine ein leistungsfähiges Werkzeug für die Herstellung von Mikroelektronik auf verschiedensten Materialien. Darüber hinaus ermöglicht die proprietäre zweidimensionale (2D) Software eine präzise Bildgebung und microlITHO-Skripting, um ein perfektes Design zu garantieren.