Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9142707 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8
ID: 9142707
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
(2) Coater / (2) Developer systems, 8" 1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine von TEL LIMITED (TOKYO ELECTRON) entwickelte Photoresist-Ausrüstung. Es ist ein hochentwickeltes und vielseitiges System, das für Photolithographie- und Lithographieanwendungen in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. TEL ACT 8 besteht aus mehreren Komponenten. Dazu gehören ein hochwertiger Uniformitäts-Scanner, eine vollautomatisierte Photolackverwaltungseinheit und eine erweiterte Wafer-Verarbeitungskammer. Der Scanner wird verwendet, um Bilder auf Wafern mit einer hohen Genauigkeit zu mustern. Es ist in der Lage, eine Scanauflösung von 0,25 Mikrometer zu erreichen, die für eine breite Palette von elektronischen Geräten geeignet ist. Die automatisierte Photoresist-Managementmaschine von TOKYO ELECTRON ACT 8 sorgt für gleichbleibende Qualität und Genauigkeit während der gesamten Photolithographie und Lithographie. Dieses Tool ist mit einem präzisionsbasierten Softwarepaket ausgestattet, das die Verwendung von Photoresist auf jedem Wafer verfolgt und überwacht. Darüber hinaus soll diese Ressource den unnötigen Reinigungs- und Wartungsaufwand reduzieren. Die erweiterte Wafer-Bearbeitungskammer von TOKYO ELECTRON ACT 8 wurde entwickelt, um eine konstante und wiederholbare Leistung zu gewährleisten. Diese Kammer ist unter anderem mit einem verbesserten thermischen Regelungsmodell, Luftströmungsdynamik und Vibrationsregelungstechnik ausgestattet. Es ist in der Lage, sehr leistungsfähige und fortschrittliche Lithographie-Anwendungen mit hohen Geschwindigkeiten bereitzustellen. ACT 8 verfügt zudem über ein hochentwickeltes Softwarepaket zur Steuerung des gesamten Prozesses. Dieses Paket hilft bei der Synchronisierung des Scanners mit der Wafer-Bearbeitungskammer und ermöglicht eine effiziente und genaue Lithographie. Darüber hinaus bietet dieses Gerät auch eine innovative „Direct-Write“ -Funktion, die die direkte Manipulation des Wafermusters ermöglicht. Dies hilft, überlegene Ergebnisse im Vergleich zu herkömmlichen Methoden der Lithographie zu erzielen. Insgesamt ist ACT 8 ein hochentwickeltes Photolacksystem für anspruchsvolle Photolithographie- und Lithographieanwendungen. Es ist ein wesentliches Werkzeug für Unternehmen der Halbleiterindustrie, die qualitativ hochwertige und präzise elektronische Geräte herstellen möchten.
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