Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9142708 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 (TEL/TE TEL ACT 8) ist ein Photoresist-Gerät, das von TOKYO ELECTRON (TEL/TOKYO ELECTRON) entwickelt wurde. Dieses System ist für die Herstellung von hochwertigen integrierten Schaltungen unter Verwendung eines Belichtungs- und Entwicklungsprozesses konzipiert. Die Einheit besteht aus einer Reihe physikalischer Komponenten, darunter ein Ultrahochfrequenzscanner, eine Energiequelle und ein Substrathalter. Der Scanner dient zum Ausrichten und Richten eines Lichtstrahls hoher Intensität einer bestimmten Belichtungswellenlänge auf den Substrathalter. Der Lichtstrahl wird dann von einem Electric-Field-Plasma (E-F-P) Controller moduliert, der eine präzise und wiederholbare Belichtung der Photoresistschicht ermöglicht. Der Substrathalter ist zur Aufnahme der Substrat- und Photolackschichten während des Belichtungsprozesses ausgebildet. Es wurde entwickelt, um die Wirkung der Substratheizung durch den E-F-P-Controller zu minimieren. Schließlich ist die Maschine auch mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen, wie einem Not-Aus-Schalter, ausgestattet, die es dem Bediener ermöglichen, den Prozess in einer Notsituation automatisch zu stoppen. TEL/TE TOKYO ELECTRON ACT 8 Photolackwerkzeug ist extrem präzise und sehr zuverlässig. Es ist in der Lage, relativ große Muster, wie z.B. Standardzellen, mit einer Auflösung von 0,18 Mikrometern bei einer Merkmalsgröße von 0,25 Mikrometern zu erzeugen. Dies ermöglicht die Integration von Schaltungen mit hoher Dichte und macht es ideal für fortgeschrittene Produkte wie Speicher und Mikroprozessoren. Darüber hinaus hat das Asset eine sehr niedrige Pixel-zu-Pixel-Verzerrungsrate von 0,5%, wodurch sichergestellt ist, dass die Mustergenauigkeit über einen längeren Zeitraum erhalten bleibt. Diese Verzerrungsrate wird durch die Fähigkeit von TOKYO ELECTRON/TE ACT 8, mehrere Belichtungen auf demselben Muster zu programmieren, weiter verbessert. Zusammenfassend ist TOKYO ELECTRON ACT 8 ein hochzuverlässiges Photolackmodell, das eine präzise Strukturierung und hochdichte Integration von Schaltungen ermöglicht. Seine Merkmale umfassen eine Modulation der Lichtquelle über einen E-F-P-Controller, eine minimale Substratheizung und eine niedrige Pixel-zu-Pixel-Verzerrungsrate. Diese Ausrüstung stellt eine ausgezeichnete Wahl für die Herstellung von fortschrittlichen integrierten Schaltungen dar.