Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9151698 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die speziell für die Herstellung von leichten integrierten Schaltkreissubstraten (IC) entwickelt wurde. Dieses System nutzt eine Photolackschicht, um die für den nachfolgenden Lithographieschritt notwendigen Masken zu erzeugen. Mit dieser Schicht kann die Lichtempfindlichkeit auf bestimmte Wellenlängen abgestimmt werden, so dass die ICs präziser hergestellt werden können. Die Hauptkomponenten von TEL ACT 8 sind das Belichtungsmodul, das die Photomaske, ein Spinnfutter und -stufe sowie einen UV-Laser enthält. Mit dem UV-Laser wird ein Muster unterschiedlicher Intensität auf die Photolackschicht erzeugt. Dieses Muster wird durch das Spinnfutter und die Bühne erzeugt, mit denen die Photomaske unter dem UV-Laser bewegt wird. Das Muster wird dann auf das integrierte Schaltungsträger belichtet, das dann von den anderen Komponenten der Maschine weiterverarbeitet wird. Um Präzision und Genauigkeit bei der Herstellung der ICs zu gewährleisten, verfügt TOKYO ELECTRON ACT 8 auch über eine hochempfindliche Imaging-Einheit. Diese Maschine nimmt einen detaillierten Scan der Photolackschicht nach der Belichtung vor, um sicherzustellen, dass etwaige Änderungen des Musters erkannt und beachtet werden können. Zusätzlich enthält das Werkzeug eine fortschrittliche Messtechnik-Steuereinheit, die bis zu 0,1 Mikrometer messen kann, um die Genauigkeit zu gewährleisten. Die Anlage ist auch kontaktfähig, wobei die Photolackschicht als Negativmaske wirkt, um Bilder direkt auf das integrierte Schaltungssubstrat zu übertragen. Diese Methode wird angewendet, wenn hochpräzise Masken benötigt werden oder wenn kleine Merkmale mit hoher Ausbeute erzeugt werden müssen. TOKYO ELECTRON ACT 8 ist ein hochentwickeltes Photoresist-Modell, das entwickelt wurde, um die Masken zu erstellen, die für die anschließende Lithographie erforderlich sind. Dieses Gerät enthält ein Belichtungsmodul, ein Bildgebungssystem und eine Messtechnik-Steuereinheit, die alle zusammenarbeiten, um die Genauigkeit und Genauigkeit zu gewährleisten, die für die Herstellung von leichten ICs erforderlich sind. Diese Einheit ist in der Lage, die Belichtung zu kontaktieren und kann Bilder bis zu 0,1 Mikrometer Größe erzeugen.