Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9159075 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8
ID: 9159075
Wafergröße: 8"
(2) Coater / (2) Developer system, 8" (7) LHP (3) CHP (1) HHP (5) CPL (1) CWL (2) TRS (1) ADH.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine fortschrittliche Photolithographie-Ausrüstung, die für die Herstellung von hochauflösender, hochpräziser Mikroelektronik entwickelt wurde. Das System verfügt über leistungsstarke Optik-, Scan- und Bildverarbeitungsfunktionen, die es Anwendern ermöglichen, Geräte mit mikroskopischen Eigenschaften und unglaublich kleinen Strukturen zu produzieren. Die Einheit besteht aus mehreren Komponenten. Zur direkten Abbildung eines Photoresistfilms wird ein Excimerlaser mit einer maximalen Wellenlänge von 248 nm eingesetzt. Der Photolackfilm wird in einer speziellen Beschichtungskammer hergestellt, wo er durch Verwendung eines Inertgases gleichmäßig dispergiert wird. Auf diese Weise kann der Laser genau die Strukturen bilden, die für die Erstellung kleiner Geräte erforderlich sind. Die Optik der Maschine besteht aus einer Reihe von Linsen, die den Laserstrahl fokussieren und refokussieren. Für feinste Details sind die Linsensysteme mit extrem kleinen Toleranzen ausgelegt. Sie bestehen aus zwei getrennten Gruppen; eine Gruppe für die anfängliche Abbildung und eine zweite für die Weiterentwicklung der KE-Größe. Diese Gruppen sind auch mit mehreren zusätzlichen Geräten ausgestattet, die die Qualität der Bildgebung fein abstimmen. Zur präzisen Ausrichtung des Laserstrahls ist ein elektronisch gesteuerter galvanometrischer Abtastspiegel vorgesehen. Mit diesem Werkzeug kann jeder Winkel schnell und präzise zur Bildung einer extrem kleinen und komplexen Mikroelektronik abgetastet werden. Die Bildverarbeitungsfähigkeiten von TEL ACT 8 sind integral, um hochpräzise Geräte zu schaffen. Ein digitaler Bildprozessor wird verwendet, um Unregelmäßigkeiten zu erkennen und zu kompensieren, um eine exakte Übereinstimmung zu gewährleisten. Für Genauigkeit und Qualitätssicherung können Merkmale sogar bis zum Nanometerstand erkannt werden. TOKYO ELECTRON ACT 8 verfügt zudem über robuste After-Imaging-Lösungen. Im Anschluss an den bildgebenden Prozess werden eine Reihe von fortschrittlichen Behandlungen vorgeformt, um die Leistung des Geräts weiter zu verbessern. Gasbehandlungen können für überlegene Adhäsion und Alkalibehandlungen für erhöhte Leitfähigkeit verwendet werden. ACT 8 mit seinen leistungsstarken Optik-, Scan- und Bildverarbeitungsfähigkeiten ist ein unschätzbarer Vorteil für die Erstellung mikroelektronischer Geräte. Seine erweiterten Funktionen und After-Imaging-Lösungen ermöglichen es Benutzern, Geräte mit verbesserter Leistung und kleinen, komplexen Funktionen zu erstellen.
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