Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9183643 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die fortschrittliche Belichtungssteuerungstechnologie mit Lithographieverfahren kombiniert. Mit proprietären Belichtungssteuerungs- und Positionierungsalgorithmen sorgt das System für hohe Präzision und Genauigkeit bei der Belichtung und Ausrichtung der Linienbreite. Darüber hinaus sorgen die schnelle Reaktion und die zuverlässige Belichtungsenergiekompensation des Geräts für eine hervorragende Linienbreitengleichförmigkeit über Wafer. TEL ACT 8 Maschine verwendet großflächige hochauflösende Wafer-Belichtungs-Steuerungstechnologie, um ausgezeichnete Schritt und wiederholen Genauigkeit und Ausrichtung zu gewährleisten. Dazu gehören automatisierte Algorithmen zur Belichtungssteuerung, die eine erweiterte Belichtungssteuerung und Feinabstimmung der Belichtungssteuerung für ein effektives Expositionsmanagement ermöglichen. Darüber hinaus sorgen die großflächige Bildgebung und die hohe optische Vergrößerung dafür, dass die Anlage kleine Defekte, feine Muster und Kontaktlöcher in hochpräzisen Lithographieverfahren überprüfen kann. TOKYO ELECTRON ACT 8 Modell bietet hochpräzise Ausrichtung mit Software gesteuerte Mikroskop-Scanning mit hoher Genauigkeit und wiederholbare Belichtungseffizienz zu unterstützen. Darüber hinaus bieten sein Wafer-Handler und Scanner bis zu 30 Mikrometer Stufen- und Wiederholgenauigkeit, die für hohe Qualität und einheitlichere Lithographie-Prozesse sorgen. TEL ACT 8 Gerät kommt auch mit einem fortschrittlichen Prozess-Monitor, der kontinuierlich Belichtungsstabilität und Mustergröße Variation überwacht, um die Leistung genau zu halten. Darüber hinaus verfügt das System über ein integriertes ADIA-Programm (Automatic Defect Inspection Analysis), das Auffälligkeiten während des Lithographieprozesses automatisch erkennt. So können Anwender potenzielle Probleme schnell erkennen und Fehler in der Produktion reduzieren. Zusammenfassend ist TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 eine Hochleistungs-Photolackeinheit. Es kombiniert fortschrittliche Belichtungssteuerungstechnologie mit Lithographie-Prozessen und sorgt für hohe Präzision und Genauigkeit in der Linienbreite Belichtung und Ausrichtung. Seine schnelle Reaktion und zuverlässige Belichtungsenergiekompensation sorgt für eine hervorragende Linienbreite Gleichmäßigkeit über Wafer, während seine großflächige Bildgebung und erweiterte Prozess-Monitor und ADIA-Programme bieten Fähigkeit, potenzielle Probleme zu identifizieren und Fehler zu reduzieren.