Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9220020 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Herstellung von Mikroelektronik. Es ist ein vollautomatisches System, das aufgrund seiner patentierten optisch automatisierten Lithography™ (OAL™) -Technologie höchste Genauigkeit und Wiederholbarkeit für präzise Photolithographie bietet. TEL ACT 8 ist so konzipiert, dass es mit seiner automatisierten und genauen Kalibrierung von Fokus, Waferausrichtung, Musterausrichtung, Overlay und Rotation in weniger als 90 Minuten für bis zu 8 Wafer gleichzeitig modernen Serienanforderungen gerecht wird. Es ist in der Lage, Wafer bis zu 8 Zoll und mit einer Auflösung von 0,1 Mikron zu verarbeiten. Die Maschine ist mit einer Reihe hochintegrierter und anspruchsvoller Fertigungsfunktionen ausgestattet. Ein Ultra-High-Speed, Dual-Laser-Scanned-Exposure (LDSE) -Modul führt Fotobelichtung mit hoher Genauigkeit und Stabilität durch. Ein fünfachsiges Ausrichtwerkzeug mit zweiachsiger Rotation und einer Bilderkennungstechnologie ermöglicht eine genaue Ausrichtung kritischer Merkmale von Wafern. Das Gerät ist auch mit einem patentierten Objektivschutzmodell ausgestattet, das den Kontakt zwischen der Linsenoberfläche und dem Wafer verhindert, um eine längere Lebensdauer des Objektivs zu gewährleisten. Ein Wafertransportmodul mit Abtastmechanismus ermöglicht auch den einfachen Transport belichteter Wafer. Darüber hinaus wird eine kompakte und effiziente staubfreie Behälterausrüstung verwendet, um eine saubere Arbeitsumgebung zu gewährleisten. TOKYO ELECTRON ACT 8 System ist auch in der Lage, verschiedene Arten von Photoresists einschließlich ArF Photoresist für ultra-hohe Auflösung und hohe Ausbeute Anwendungen, I-line und KrF Photoresists für niedrigere Auflösung und andere Anwendungen zu unterstützen. Es ermöglicht auch eine breite Palette von Ätzchemie für eine Vielzahl von mikroelektronischen Fertigungsanforderungen. ACT 8 Photolackeinheit ist eine fortschrittliche und zuverlässige Maschine zur Herstellung von mikroelektronischen Bauteilen mit hoher Auflösung und Ausbeuten. Es verfügt über mehrere erweiterte Funktionen, wie die automatisierte Kalibrierung von Prozessparametern und seine hochintegrierten Fertigungsfunktionen. Die bewährte Genauigkeit und Wiederholbarkeit hebt sie von anderen Photolithographiesystemen ab und macht sie zu einer idealen Lösung für die Produktion mit hohen Mengen an kritischen Komponenten.