Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9235266 zu verkaufen

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ID: 9235266
Wafergröße: 8"
System, 8" Wafer flow: Left to right Wafer type: Notch / Flat Cassette block (CSB): Open type Process block (PRB): 1 Block Interface block (IFB) CANON FPA-3000 i5 Exposure system Chemical box: Solvent: (2) Buffer tanks and degas module HMDS: Buffer tank and canister tank Solution: (2) Buffer tanks and (2) Degas modules Drain: COT Drain poly tank With fire extinguisher system Temperature and humidity 1: COSAM SPA-Series No temperature and humidity 2 Temperature control unit (TCU) 1: INR Series AC Power box No back-up module in AC power box (7) Parts boxes Missing part in AC box Cassette block (CSB): No ULPA fan unit Display panel Alarm tower Loader No carrier reader sensor CRA: X, Y, TH, Z Motor set X, Y, TH, Z Drive set Tweezer Mapping sensor Wafer check sensor No AGV system MSE 343B DC Power box CSB Chemical area: Resist pump: (8) T-F200 Series RRC Pumps Resist bottle: Gallon bottle and quart bottle Resist filter: (4) Impact type (4) Housing type (8) LE Tanks: 200cc Process block (PRB) 2: FAN Unit TH Drive PRA: X1, 2, 3, Z Motor and drive Pincette and wafer block Wafer sensor Coater (COT): (4) Dispense nozzles Nozzle arm 1 and 2 Chuck Back rinse nozzle No BARC coater (COT) TARC Coater (TCT): (2) Dispense nozzles Nozzle arm 1 and 2 Chuck Back rinse nozzle CUP Set Developer (DEV): Dispense nozzle: H Nozzle Nozzle arm 1 and 2 Chuck Back rinse nozzle CUP Set Process block (PRB) 2: Oven ADH LHP No HHP No HCH CPL No PHP No PCH CHP No TCP TRS CWH IFB (Interface block): FAN Unit EIS Type: CANON IRA: X, TH, Y, Z Motor and drive Tweezer and wafer block Wafer sensor WEE: X Motor and drive Chuck Exposure type: DUV-Line Exposure sensor: 254 UV.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Anlage, die zur Herstellung elektronischer gedruckter Schaltungen verwendet wird. Das System ist in der Lage, die Herstellung von Geräten von kleinen bis großen Größen mit wiederholbaren und robusten Herstellungsprozessen zu ermöglichen. TEL ACT 8 besteht aus einem Photolackprozessor, einem Maskenausrichter und einer Fehlerinspektionseinheit. Der Photolackprozessor ermöglicht das Aufbringen von Licht auf eine Oberfläche der Leiterplatte, was die Selektivität und Geschwindigkeit des Ätzprozesses unterstützt. Der Maskenausrichter ermöglicht es dem Benutzer, die Maske genau auf die Leiterplatte auszurichten, so dass das Photolackmaterial in den richtigen Ätzpositionen aufgebracht wird. Schließlich überwacht die Defektinspektionsmaschine das Photolackmaterial auf Fehler und Makel und sorgt dafür, dass das Endergebnis von höchster Qualität ist. TOKYO ELECTRON ACT 8 wurde entwickelt, um überlegene Präzision und Genauigkeit zu bieten. Das Tool unterstützt hohe Genauigkeit, da es Funktionen bis zu einer Größe von 0,5 Mikrometern auflösen kann. Durch diese Präzision lassen sich sehr kleine und komplizierte Schaltungen präzise herstellen. Das Asset ermöglicht auch die Flexibilität, große Panels in einem Schritt zu produzieren, mit schnellen Schaltzeiten und robusten Prozessen, die in hohem Maße wiederholbar sind. TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine äußerst zuverlässige und konsistente Lösung für die Herstellung von Prototyp- und Produktionsschaltungen. Das Modell ist mit einer Vielzahl von Photoresist-Materialien kompatibel, sodass Benutzer ihre Prozesse für beste Ergebnisse anpassen können. Es ist auch in der Lage, verschiedene Substrate und Plattentypen zu handhaben, so dass es für eine breite Palette von Anwendungen verwendet werden kann. Insgesamt ist ACT 8 eine zuverlässige und umfassende Photolackausrüstung, die die Herstellung hochwertiger gedruckter Schaltungen ermöglicht. Das System ist hochgenau und wiederholbar und bietet überlegene Präzision und Genauigkeit für komplexe Schaltungsdesigns und ist mit einer Vielzahl von Materialien und Substraten für eine breite Anwendungsvielfalt kompatibel.
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