Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9235266 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9235266
Wafergröße: 8"
System, 8"
Wafer flow: Left to right
Wafer type: Notch / Flat
Cassette block (CSB): Open type
Process block (PRB): 1 Block
Interface block (IFB)
CANON FPA-3000 i5 Exposure system
Chemical box:
Solvent: (2) Buffer tanks and degas module
HMDS: Buffer tank and canister tank
Solution: (2) Buffer tanks and (2) Degas modules
Drain: COT Drain poly tank
With fire extinguisher system
Temperature and humidity 1: COSAM SPA-Series
No temperature and humidity 2
Temperature control unit (TCU) 1: INR Series
AC Power box
No back-up module in AC power box
(7) Parts boxes
Missing part in AC box
Cassette block (CSB):
No ULPA fan unit
Display panel
Alarm tower
Loader
No carrier reader sensor
CRA:
X, Y, TH, Z Motor set
X, Y, TH, Z Drive set
Tweezer
Mapping sensor
Wafer check sensor
No AGV system
MSE 343B DC Power box
CSB Chemical area:
Resist pump: (8) T-F200 Series RRC Pumps
Resist bottle: Gallon bottle and quart bottle
Resist filter:
(4) Impact type
(4) Housing type
(8) LE Tanks: 200cc
Process block (PRB) 2:
FAN Unit
TH Drive
PRA:
X1, 2, 3, Z Motor and drive
Pincette and wafer block
Wafer sensor
Coater (COT):
(4) Dispense nozzles
Nozzle arm 1 and 2
Chuck
Back rinse nozzle
No BARC coater (COT)
TARC Coater (TCT):
(2) Dispense nozzles
Nozzle arm 1 and 2
Chuck
Back rinse nozzle
CUP Set
Developer (DEV):
Dispense nozzle: H Nozzle
Nozzle arm 1 and 2
Chuck
Back rinse nozzle
CUP Set
Process block (PRB) 2: Oven
ADH
LHP
No HHP
No HCH
CPL
No PHP
No PCH
CHP
No TCP
TRS
CWH
IFB (Interface block):
FAN Unit
EIS Type: CANON
IRA:
X, TH, Y, Z Motor and drive
Tweezer and wafer block
Wafer sensor
WEE:
X Motor and drive
Chuck
Exposure type: DUV-Line
Exposure sensor: 254 UV.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Anlage, die zur Herstellung elektronischer gedruckter Schaltungen verwendet wird. Das System ist in der Lage, die Herstellung von Geräten von kleinen bis großen Größen mit wiederholbaren und robusten Herstellungsprozessen zu ermöglichen. TEL ACT 8 besteht aus einem Photolackprozessor, einem Maskenausrichter und einer Fehlerinspektionseinheit. Der Photolackprozessor ermöglicht das Aufbringen von Licht auf eine Oberfläche der Leiterplatte, was die Selektivität und Geschwindigkeit des Ätzprozesses unterstützt. Der Maskenausrichter ermöglicht es dem Benutzer, die Maske genau auf die Leiterplatte auszurichten, so dass das Photolackmaterial in den richtigen Ätzpositionen aufgebracht wird. Schließlich überwacht die Defektinspektionsmaschine das Photolackmaterial auf Fehler und Makel und sorgt dafür, dass das Endergebnis von höchster Qualität ist. TOKYO ELECTRON ACT 8 wurde entwickelt, um überlegene Präzision und Genauigkeit zu bieten. Das Tool unterstützt hohe Genauigkeit, da es Funktionen bis zu einer Größe von 0,5 Mikrometern auflösen kann. Durch diese Präzision lassen sich sehr kleine und komplizierte Schaltungen präzise herstellen. Das Asset ermöglicht auch die Flexibilität, große Panels in einem Schritt zu produzieren, mit schnellen Schaltzeiten und robusten Prozessen, die in hohem Maße wiederholbar sind. TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine äußerst zuverlässige und konsistente Lösung für die Herstellung von Prototyp- und Produktionsschaltungen. Das Modell ist mit einer Vielzahl von Photoresist-Materialien kompatibel, sodass Benutzer ihre Prozesse für beste Ergebnisse anpassen können. Es ist auch in der Lage, verschiedene Substrate und Plattentypen zu handhaben, so dass es für eine breite Palette von Anwendungen verwendet werden kann. Insgesamt ist ACT 8 eine zuverlässige und umfassende Photolackausrüstung, die die Herstellung hochwertiger gedruckter Schaltungen ermöglicht. Das System ist hochgenau und wiederholbar und bietet überlegene Präzision und Genauigkeit für komplexe Schaltungsdesigns und ist mit einer Vielzahl von Materialien und Substraten für eine breite Anwendungsvielfalt kompatibel.
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