Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9238389 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8
ID: 9238389
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
Coater / Developer system, 8" 1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von der TEL Corporation der TOKYO ELECTRON Ltd. Es ist ein optisches, automatisiertes Photolithographiesystem, das bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Diese Einheit wurde entwickelt, um die genaue und hochauflösende Herstellung von Lithographiemasken zu ermöglichen, die bei der Herstellung moderner Halbleiter verwendet werden. TEL ACT 8 besteht aus mehreren Komponenten, darunter einer Beleuchtungsquelle, einer Linsenmaschine, einem Retikelausrichtwerkzeug und einem belichteten Photoresist-Asset. Die vom Modell verwendete Beleuchtungsquelle ist ein Laser, der bei verschiedenen Wellenlängen arbeitet, typischerweise im Bereich von 350 - 400 nm. Das Laserlicht wird durch eine hochpräzise Linseneinrichtung geleitet und kann eine optische Leistung von bis zu 200 mW/cm2 liefern. Das Retikelausrichtungssystem dient dazu, das im Photolithographieverfahren verwendete Retikelmuster exakt mit dem Wafer auszurichten. Die belichtete Photolackeinheit umfasst einen dynamischen Scanner, mit dem der Photolack auf die Waferoberfläche aufgebracht wird. Dies geschieht mit einem gleichmäßigen Lichtstrom, der der Waferoberfläche zugeführt wird. Die Gesamtleistung, die dem Wafer zugeführt wird, kann anhand der gewünschten Auflösung genau eingestellt werden. Anschließend wird der Photoresist dem Laserlicht ausgesetzt und eine chemische Reaktion induziert, die dazu führt, dass der Photoresist in den lichtbelichteten Bereichen gehärtet oder erweicht wird. Dieses geätzte Muster wird dann verwendet, um den Wafer in einem nachfolgenden Prozess zu mustern. TOKYO ELECTRON ACT 8 ist für die Verwendung mit einer Präzisionsausrichtungsmaschine der Alaskan-Serie konzipiert. Diese Kombination bietet Genauigkeit von bis zu 0,03 Mikrometer und ist in der Lage, Funktionen so klein wie 0,07 Mikrometer zu produzieren. Das Werkzeug verfügt auch über ein hauseigenes Simulatorprogramm, mit dem Wafer-Konstruktionen vor dem eigentlichen Fertigungsprozess getestet werden können. Abschließend ist TEL ACT 8 eine automatisierte, hochgenaue Photolithographie für die Herstellung von Geräten für die moderne Halbleiterproduktion. Es verwendet ein Lasermodell, um eine Reihe von Einstellungen für Auflösung und Leistung zur Verfügung zu stellen. Darüber hinaus bieten die Ausrichtgeräte der Alaskan-Serie und das hauseigene Simulatorprogramm den Anwendern die Flexibilität, komplizierte Designs mit höchster Genauigkeit und Präzision zu erstellen.
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