Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9244352 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine photoresist Ausrüstung entwickelt, um Materialien beständig gegen Energiequellen zu machen. Mit diesem System können Schutz- und Funktionsflächen für verschiedene Anwendungen geschaffen werden. Die Einheit besteht aus einer hochleistungsfähigen, kontrastreichen, organischen Dampfschutzschicht und einer polymeren Absorberschicht. Die Maschine ist so konzipiert, dass sie mit derzeit gängigen Lithographietechniken wie Photolithographie, Elektronenstrahllithographie und Ionenstrahllithographie kompatibel ist. Die Deckschicht aus TEL ACT 8 besteht aus einem siliziumhaltigen Resistmaterial, das verschiedenen Energiequellen wie Kontaktbelichtung, Elektronenstrahlung, UV-Licht, Ionenstrahl, Röntgenstrahlung usw. widerstehen kann. Diese Deckschicht weist ein sehr hohes Auswahlverhältnis auf, um einen hervorragenden Kontrast zwischen belichteten Bereichen und unbelichteten Bereichen zu erzielen. Es wird auch formuliert, um oberflächliche organische und Entfernungsprozesse durchlaufen zu können. Die Polymerschicht aus TOKYO ELECTRON ACT 8 besteht aus einem polymeren Resistpolymer mit hoher thermischer Stabilität. Sie schützt die Oberfläche vor Energiequellen und anderen Umweltbedingungen. Da es sehr empfindlich auf Strahlenbelastung ist, hilft es, präzise Muster zu erzeugen, wenn es mit einem geeigneten Lithographiewerkzeug verwendet wird. TEL ACT 8 ist eine ausgezeichnete Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen. Es bietet hohe Auflösung und überlegenen Oberflächenschutz für eine Vielzahl von Materialien, die Glas, Metalle und einige Arten von Polymeren umfassen. Der hohe Kontrast und die hervorragende Haftung machen es ideal für Bereiche wie Leiterplatten, optische Komponenten und viele andere mikroelektronische Geräte. Außerdem ist es korrosions- und verschleißfest konzipiert, was es für Bereiche unter harten Umweltbedingungen geeignet macht. Mit seinen hervorragenden Eigenschaften ist es ein bevorzugtes Material, wenn es um High-End-Photoresist-Lösungen geht.