Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9244824 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung für fortschrittliche Lithographie. Dieses System bietet Forschern und Fachleuten aus der Industrie hochauflösende, reproduzierbare und robuste Strukturierungsmöglichkeiten für die Entwicklung elektronischer Schaltungen in fortschrittlichen Halbleiterwafertechnologien. Die Einheit basiert auf einer selbstjustierenden, mehrschichtigen Resist-Technologie, die eine hochauflösende Strukturierung von Nanopartikeln mit totaler Kontrolle der Geometrie und Größe der Muster ermöglicht. Die Resistmaschine besteht aus einer tiefen ultravioletten (DUV) Lichtquelle und einer Resistformulierung, die auf eine optimale Strukturierleistung zugeschnitten ist. Die tiefe UV-Lichtquelle ermöglicht eine hochgenaue und effiziente Strukturierung der Resistschichten mit einer Vielzahl von Belichtungen. Die Resist-Formulierung ist so konzipiert, dass sie eine präzise Kontrolle der Musterabmessungen und ihrer lithographischen Eigenschaften ermöglicht und eine hervorragende Mustertreue und Wiederholbarkeit ermöglicht. Diese Funktionen bieten dem Werkzeug eine hohe Produktivität und Gleichmäßigkeit, was es zu einer idealen Wahl für kritische Anwendungsbereiche wie Hochleistungsspeicher und Bildsensoren macht. Das Asset unterstützt die Mixed-Layer-Lithographie, die es Designern ermöglicht, mehrere Schichten von positiven und negativen Resists zu kombinieren, um die Muster-Dimensionen und andere kritische Parameter in der Produktion genau zu steuern. Darüber hinaus verfügt das Modell über erweiterte Autofokus- und automatische Belichtungsfunktionen mit vorprogrammierten Prozessparametern für wiederholbare und genaue Ergebnisse. TEL ACT 8 ist mit einer intuitiven Benutzeroberfläche und benutzerfreundlichen Bedienelementen ausgestattet, die den Anwendern einen komfortablen und präzisen Zugriff auf alle Prozessparameter ermöglichen. Es kommt auch mit umfassender Dokumentation und umfangreicher Anwendungsunterstützung. Das System ist mit einer Vielzahl von Ätz- und Abscheideprozessen kompatibel und unterstützt auch die Multiprojektscheibenfähigkeit. TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine vielseitige und effektive Photolackeinheit, die Anwendern überlegene Leistung und Wiederholbarkeit für fortschrittliche Lithographie bietet. Es bietet eine hervorragende Musterkontrolle mit fortschrittlichen Autofokus- und Belichtungsfunktionen sowie zuverlässige Prozesstreue auch bei anspruchsvollen Anwendungen. Seine umfassende Unterstützung und benutzerfreundliche Oberfläche machen es zu einer idealen Wahl für Forschungslabore und Produktionsumgebungen.