Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9251354 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die von TEL Limited (TOKYO ELECTRON) entwickelt wurde. Es ist ein Hochleistungs-Mustersystem, ideal für komplizierte Designs mit extremer Genauigkeit. Diese Einheit ist weit verbreitet in der Mikroelektronik- und Halbleiterindustrie zur Herstellung komplexer Designs für integrierte Schaltungen. TEL ACT 8 verwendet eine hochpräzise optische Maschine, die eine fokussierte Lichtquelle verwendet, die als Laser bezeichnet wird. Dieser Laser dient zur Belichtung eines lichtempfindlichen Materials, das als Photoresist bezeichnet wird und durch Lichteinwirkung verändert werden kann. Der lichtempfindliche Resist wird zunächst in einer dünnen Schicht auf ein Substrat, wie eine Siliziumscheibe oder Leiterplatte, aufgebracht. Der Laser wird dann auf diese Photolackschicht fokussiert und Energie aus der Lichtquelle bewirkt eine chemische Reaktion, die den Zustand des Photolacks verändert. Dies kann den Photolack je nach Wellenlänge des verwendeten Laserlichts aushärten oder erweichen, so dass er in eine bestimmte Form gemustert werden kann. Sobald der Belichtungsprozess abgeschlossen ist, können Nachbehandlungsschritte wie Entwicklung und Ätzen verwendet werden, um den verbleibenden Photoresist vom Substrat zu entfernen. Dadurch bleibt ein Muster von elektrischen Kontakten zurück, die als Teil einer integrierten Schaltung oder eines anderen elektronischen Gerätes verwendet werden können. TOKYO ELECTRON ACT 8 bietet aufgrund seiner hohen Genauigkeit und Zuverlässigkeit mehrere Vorteile gegenüber anderen Photolacksystemen. Da das Werkzeug vollautomatisiert ist, sorgt es für wiederholbare Ergebnisse bei minimalem Eingriff des Bedieners. Darüber hinaus bietet die Anlage eine hervorragende Kompatibilität mit der gesamten Palette von Photolackmaterialien und ermöglicht maximale Flexibilität in Bezug auf Prozessschritte. Das fortschrittliche optische Modell in ACT 8 sorgt auch dafür, dass sehr kleine Merkmale genau auf dem Substrat gemustert werden können, um komplexe Designs zu erstellen. Dies macht es eine ideale Wahl für weitere Geräte Miniaturisierung und erweiterte Musterung Anwendungen. Abschließend ist die Photolackanlage ACT 8 eine ideale Wahl für Mikroelektronik und Halbleitereinrichtungen. Es bietet überlegene Genauigkeit, Kompatibilität mit einer breiten Palette von Photolackmaterialien und automatisierten Betrieb für effiziente und wiederholbare Ergebnisse.