Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9252167 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Anlage, die Photomasken produziert, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden. Dieses System hat die Fähigkeit, hochgenaue Muster mit hoher Auflösung und Wiederholbarkeit zu erstellen. Die erzeugten Photomasken-Muster werden durch die proprietäre Double Patterning Exposure (DPE) -Methode erzeugt. Bei diesem Verfahren wird ein einzelner Fotolackfilm aufeinanderfolgend von zwei verschiedenen optischen Quellen mit Abtastspiegelprojektion belichtet. Dieses Gerät verwendet auch benutzerdefinierte Maskenkonfiguration mit unterschiedlichen Ebenen der Bildkomplexität und Photomaskengeometrie, so dass der Benutzer die Photomaskenmuster anpassen kann. Die von TEL ACT 8 hergestellte Fotomaske wird durch eine Vielzahl von Verfahren hergestellt. Zunächst wird ein Glassubstrat mit einem amorphen Siliziumharz beschichtet, das als Photomaskenmuster dient. Anschließend wird der Film mit Licht belichtet, das die Photoresist-Regelschicht abstellt. Das Licht bewirkt, daß das belichtete Harz polymerisiert und zu einer bestimmten chemischen Lösung unlöslich wird. Dadurch entsteht ein Ätzlinienmuster. Schließlich wird dieses Muster auf das Glassubstrat übertragen. Die Entschlossenheit dieser Fotomaskenmaschine ist, mit einer minimalen Linie/Raum von 0,08 Mikron und einem konsequenten Wurf bis zu 0,2 Mikron über eine Reihe von 8 Millionen Pixeln ziemlich eindrucksvoll, ELEKTRON-Ideal des GESETZES 8 VON TOKIO für die strengsten Halbleitergerätherstellungsanwendungen machend. Seine Wiederholbarkeit von weniger als 0,001 Mikrometer sorgt für ausgezeichnete Produktqualität und Erträge. Darüber hinaus ermöglicht das Design von TOKYO ELECTRON ACT 8 eine schnelle Belichtungszeit, die in der Regel von mehreren Stunden bis zu einem Tag reicht. TEL ACT 8 Werkzeug verfügt auch über eine Reihe von anspruchsvollen Fehler-Check und Auto-Korrektur Software-Tools. Mit diesen Werkzeugen können Außertoleranzbedingungen vor der Überprüfung der geätzten Folie manuell korrigiert werden, wodurch komplizierte Muster präzise erzeugt werden. So ist TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ein zuverlässiges Photoresist-Gut, das hochentwickelte Photomasken-Muster mit außergewöhnlicher Wiederholbarkeit und Präzision erzeugen kann.