Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9253993 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für den Lithographieprozess bei der Herstellung von integrierten Schaltungen und Halbleitern konzipiert ist. Es wird verwendet, um Muster auf Wafern zu erzeugen elektrische Schaltungen. Das System basiert auf einer säurekatalysierten thermischen Oxidation (ACT) und ist in der Lage, Wafer mit unterschiedlichsten Abmessungen zu strukturieren. TEL ACT 8 stellt eine hochauflösende Bildverarbeitungsmaschine zur Verfügung, die Submikron-Merkmale bis zu 0,2 Mikrometer herstellen kann. Es verwendet optische Quellenvergrößerungstechnologie, die hilft, die Genauigkeit und Auflösung des Musterprozesses zu verbessern. TOKYO ELECTRON ACT 8 nutzt auch die Verarbeitung mehrerer Schichten, um komplexe Muster zu erzeugen. Mehrere Schichten Resist werden nacheinander aufgebracht, so dass feiner vertikal getrennte Resist-Schichten entstehen können. Das Werkzeug ist entworfen, um ausgezeichnete Muster Facture bieten, was zu einer hohen Ausbeute an Produkten. Der ADVACT 5 Masken-Aligner ist so konzipiert, dass er den hohen Anforderungen an Geschwindigkeit und Durchsatz der Produktionsmaßstab-Lithographie gerecht wird. Es kann entweder auf trockenen oder nassen Substraten arbeiten und ermöglicht hochgenaue Fotoabbildungsprozesse. Es verfügt auch über eine automatisierte Wafer-Handling-Anlage und einen UV-Arreting-Mechanismus, der hilft, Fehler in der Musterbildgebung zu reduzieren. Das Modell beinhaltet auch einen Mehrquellen-Lampensockel, der eine Reihe von Beleuchtungsquellen unterstützt. Der Lampensockel wurde entwickelt, um sowohl einen hohen Kontrast als auch eine hohe Auflösung zu bieten und ein gleichbleibend hochwertiges Bild zu gewährleisten. Kurz gesagt, TEL ACT 8 ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die ein hochwertiges Bild- und Musterverfahren für die Halbleiter- und integrierte Schaltungsherstellung bietet. Es verfügt über Mehrschichtverarbeitung, hochauflösende Bildgebungssysteme, automatisiertes Wafer-Handling und einen Lampensockel mit mehreren Quellen. Das System wurde entwickelt, um den Durchsatz zu erhöhen und die Ausbeute in der Musterbildgebung zu verbessern.