Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9269550 zu verkaufen
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ID: 9269550
Weinlese: 2012
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2012 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung für optimale Filmbildung und Musterleistung. Es ist ein hochentwickeltes photolithographisches System, das speziell für die Herstellung von fortschrittlichen F&E- und Serienhalbleiterbauelementen entwickelt wurde. Die Einheit zeichnet sich durch ein verbessertes Folienmaterialabscheideverfahren aus, mit der Fähigkeit, dünne und dicke Folien in den unterschiedlichsten Folienmaterialien herzustellen. Diese Folien können mit dem fortschrittlichen bildgebenden Werkzeug der Maschine schnell und effizient gemustert werden. Das Asset ist hochgenau und ermöglicht eine präzise Strukturierung von Strukturen wie VLSI-Schaltungen und Hochgeschwindigkeitskontakten. TEL ACT 8 verfügt über ein Schrittmodell mit 500 Mikrometer Auflösung. Es enthält einen ultra-hochauflösenden Autofokus und feine Ausrichtungsfunktionen und kann sowohl positive als auch negative Fotoresists verarbeiten. Die fortschrittliche Photolithographie-Ausrüstung umfasst einen leistungsstarken räumlichen Lichtmodulator (SLM) und eine Laserausrichtungsvorrichtung, wodurch sie für komplizierte Muster geeignet ist. Das Gerät bietet auch High-Speed-Mustererzeugungsprozess mit einem schnellen und präzisen Druckkopf. Auch Mustergröße, Form und Seitenverhältnis lassen sich mit der proprietären Software problemlos anpassen. Dies macht das System nützlich für die Nass- und Trockenbearbeitung einer Vielzahl von Filmen, einschließlich thermisch und elektrochemisch gewachsener Materialien. Das Gerät ist auch mit Vakuum- und Temperatursystemen zur kontrollierten Abscheidung und Verarbeitung ausgestattet. Diese Kombination von Technologien bietet höchste Genauigkeit für feine Lithographiemasken und präzise Musterung. TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine leistungsstarke und zuverlässige photolithographische Maschine, die den Anforderungen von Hochleistungs-Produktions- und Forschungseinrichtungen gerecht wird. Seine Vielseitigkeit und Präzision machen es zum perfekten Werkzeug für genaue Lithographie und zuverlässige Ergebnisse für alle Ihre Anforderungen an die Herstellung von Halbleiterbauelementen.
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