Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9272113 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die bei der Herstellung integrierter Schaltungen und anderer Halbleiterbauelemente verwendet wird. Es ist ein fortgeschrittenes System, das in Form von Lithographie verwendet wird, indem ein vorgemustertes Resist- oder lichtempfindliches Material ultraviolettem Licht ausgesetzt wird und es dann zu einem gewünschten Muster entwickelt wird. TEL ACT 8 Einheit ist in der Lage, ein Muster auf einem Substrat mit außergewöhnlicher Genauigkeit und ausgezeichneter Oberflächenkonsistenz zu erzeugen. Im Zentrum der TOKYO ELECTRON ACT 8 Maschine steht der fortschrittliche Photomasken-Aligner, der die Photomaske exakt auf das Substrat ausrichtet. Die Photomaske enthält ein Muster von Belichtungsstellen, die gewünschten Mustern auf dem Substrat entsprechen. Die Belichtungsstellen können beliebig groß und geformt sein, z. B. Quadrate, Kreise oder Sechsecke. Der Photomasken-Aligner verwendet hochpräzise Sensoren, um eine perfekte Ausrichtung zu gewährleisten. Dadurch wird die Genauigkeit der Belichtungsstellen gewährleistet, so dass das auf dem Substrat erzeugte Muster präzise ist. Das Photoresist-Merkmal von ACT 8 ist eine kritische Komponente des Werkzeugs, da es hilft, das Muster auf dem Substrat zu erzeugen. Das Photoresist-Material besteht aus zwei Schichten, wobei die untere Schicht aus einem lichtempfindlichen Material und die obere Schicht aus einem Schutzfilm besteht, der das lichtempfindliche Material vor dem Belichtungslicht abschirmt. Bei richtiger Steuerung lässt die Deckschicht gerade so viel Belichtung ein, dass das lichtempfindliche Material reagiert und ein Muster auf dem Substrat erzeugt. Das Asset enthält auch die Entwickler-Funktion, die hilft, das Muster auf dem Substrat zu erstellen. Nach dem Aufbringen des Belichtungslichts auf das Substrat übernehmen und helfen die Entwickler, das gewünschte Muster zu bilden. Die Entwickler sind ein fortschrittliches chemisches Modell, das verschiedene Ätzmittel und Lösungsmittel enthält. Diese helfen, das lichtempfindliche Material in lokalisierten Bereichen zu lösen und bilden das Muster auf dem Substrat. TOKYO ELECTRON ACT 8 umfasst auch feinabstimmbare Beleuchtungssysteme, die eine gleichmäßige Belichtung des Substrats gewährleisten. Dies trägt dazu bei, dass das gewünschte Muster ohne Inkonsistenzen auf allen Teilen des Substrats erzeugt wird. Die Beleuchtungssysteme können auch verwendet werden, um die Belichtungspegel zur Anpassung an die Substratoberfläche zu ändern und präzise und präzise Muster zu gewährleisten. Insgesamt ist ACT 8 ein fortschrittliches Photolacksystem, das präzise Muster mit außergewöhnlicher Genauigkeit und hervorragender Oberflächenkonsistenz erzeugen kann. Seine fortschrittlichen Photomasken-Ausricht- und Beleuchtungssysteme sorgen für eine gleichmäßige Belichtung des Substrats, während seine Entwickler helfen, das gewünschte Muster zu erstellen. Zusammen machen diese Funktionen es zu einer idealen Einheit für die Schaffung von anspruchsvollen integrierten Schaltungen und anderen Halbleiterbauelementen.