Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9273823 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine hochpräzise Photolithographie-Ausrüstung für fortschrittliche Halbleiterproduktionsprozesse. Das System nutzt fortschrittliche Laserphotolithographie, um skalierte elektronische Geräte und Komponenten mit genauer physikalischer Dimensionierung und hoher Detailtreue zu erstellen. TEL ACT 8 bietet eine vielseitige Plattform zur Herstellung von CMOS, BiCMOS, DMOS und BCDMOS integrierten Schaltungen auf verschiedensten Materialien wie Siliziumscheiben, isolierenden Substraten und Leiterplatten. Die Maschine verfügt über fortschrittliche lasersteuerbare Laserhardware mit ausgezeichneter Stabilität und dynamischer Reaktion, um die anspruchsvollsten Lithographie-Prozesse zu bewältigen. Das Werkzeug verwendet mehrere FELIX-Laser mit unterschiedlichen Wellenlängen von 248 nm bis 356 nm zur Maskierung, Positionierung und Belichtung verschiedener Materialien und Gerätestrukturen. Es verwendet auch einen ScanCam-Typ LaserWriter Foto-Maske Generatoren für die genaue Struktur Positionierung von fortgeschrittenen Photomasken Muster in feinen Linien Korridore so niedrig wie ein Zehntel Mikrometer breit. Der Photoresist-Prozessor von TOKYO ELECTRON ACT 8 verwendet High-End-lasergetriebene Abtastsysteme, die sowohl den Röntgen- als auch den Schrittlithographie-basierten Ansätzen aufgrund ihrer hohen Auflösung und schnellen Reaktionszeit überlegen sind. Der Prozessor verfügt über eine fortschrittliche Strahlverarbeitung, Pulsstrahlpumpentechnologie und verschiedene Polsterstufen, um High-End-Verarbeitungsergebnisse zu gewährleisten. Darüber hinaus verwendet ACT 8 eine hochentwickelte Wärmebildtechnologie für die genaue und wiederholbare Inspektion und Messung von elektronischen Geräten und Substraten. Es bietet auch eine benutzerfreundliche Schnittstelle für die Material- und Prozesssteuerung, die eine Echtzeitanalyse und Anzeige von Bilddaten bietet. TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist ein High-End-Photolithographie-Asset, das für die anspruchsvollen Anforderungen fortschrittlicher Halbleiterproduktionsprozesse geeignet ist. Dieses Modell hilft bei der schnellen Entwicklung leistungsfähiger, technisch komplexer Geräte und bietet gleichzeitig eine hochpräzise und zuverlässige Plattform für die Herstellung fortschrittlicher elektronischer Produkte.