Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9275379 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eines der neuesten auf dem Markt erhältlichen Photoresist-Systeme. Photoresists sind eine Art von Material, das in der Halbleiterindustrie verwendet wird, um eine Photomaske zu ätzen oder zu strukturieren, um mikroskopische elektronische Komponenten zu erzeugen. Photomasken werden erzeugt, indem ein Bild von einer Fotomaske auf eine Photolackschicht übertragen wird, die ein Mikroschaltungsmuster erzeugt. TEL ACT 8 ist für Flexibilität und Geschwindigkeit ausgelegt. Es verfügt über ein Düsendesign mit einem dreistufigen Mechanismus zur Hochgeschwindigkeitsbearbeitung von Photolack. Die Düse verwendet einen Gasstrom, der hilft, den Photolack gleichmäßig über das Substrat zu verteilen und das Muster exakt von der Photomaske auf die Photolackschicht zu übertragen. Darüber hinaus ermöglicht die TOKYO ELECTRON ACT 8 Düse auch eine präzise Steuerung der aufgebrachten Photolackmenge. TEL ACT 8 System enthält auch eine hohe Geschwindigkeit und Genauigkeit Steuereinheit. Diese Maschine enthält eine Reihe von Sensoren, die es dem Fotomasker ermöglichen, die Dicke des Photolacks zu überwachen, die an die Anforderungen des Kunden angepasst werden kann. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug auch über eine hochempfindliche Fehlererkennung, die eine schnelle Erkennung photoresistbezogener Anomalien ermöglicht. TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 Modell verfügt auch über eine erweiterte Muster-Editing-Ausrüstung, die hilft, die Zeit im Photomasken-Layout zu reduzieren. Dieses System bietet die Möglichkeit, das Photomasken-Layout schnell und einfach zu modifizieren, um ein hochwertiges Muster zu erstellen. Darüber hinaus verwendet die Einheit eine vektorbasierte Mustermaschine, so dass komplexe Muster schnell und genau erzeugt werden können. Die ACT 8 Maschine ist ein hochmodernes Photoresist-Werkzeug, das die Zeit und den Aufwand im Photomaskierprozess reduziert. Seine hohe Geschwindigkeit und Genauigkeit Kontrolle Asset, erweiterte Muster-Bearbeitungsmodell und Vektor-basierte Muster-Engine ermöglichen es Benutzern, hohe Qualität und Präzision Photomasken-Komponenten mit Leichtigkeit zu produzieren.