Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9283381 zu verkaufen

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ID: 9283381
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2003
(1) Coater / (2) Developer system, 8" Machine type: L-Type Single block Main controller: M/C Normal installation Coat Process Station (COT): (2) Nozzles RRC Pump Solvent automatic supply: (2) Tank auto supplies / TEL Standard Side rinse (EBR) (2) Back Side Rinses (BSR) Develop process station (DEV): Nozzle H Type Dev Solution automatic supply: (2) Tank auto supplies / TEL Standard Rinse nozzle (2) Back Side Rinses Adhesion process station (6) Low temperature hot plate stations (LHP) (2) High temperature hot plate process stations (HHP) (4) Chilling plate process stations (CPL) (2) Transition stage units (TRS) AC Power box Chemical box Temperature controller KOMATSU (SPA-1882-A) T&H 2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die verwendet wird, um Hochleistungs-Halbleiter zu erzeugen. Dieses System verwendet ein datengesteuertes optisches Lithographieverfahren, das eine Form der direkten Schreiblithographie ist. In der Photolithographie wird Licht verwendet, um strukturierte Zellen auf ein Substrat, typischerweise einen Siliziumwafer, zu übertragen. Dieses Licht ist typischerweise ultraviolette Strahlung oder UV. Diese Methode der Lithographie erlaubt es, das Muster genau zu replizieren und zu skalieren, um das Substrat anzupassen. Dies wird zum Ausgangspunkt für die Erstellung von Transistoren, Kondensatoren und anderen Bauelementen eines Halbleiterbauelements. Mit TEL ACT 8 wird eine fortschrittliche Lithographiemaschine mit einem leistungsstarken 3-stufigen Verfahren eingesetzt. Zunächst verwendet die Maschine eine binäre optische Maske, um ein bestimmtes Muster auf ein leeres Siliziumsubstrat aufzubringen. Als nächstes wird dieses Muster UV-Licht ausgesetzt, so dass die Maske dann entfernt werden kann. Das fertige Produkt ist eine exakte Replikation des Musters auf der Maske. Die Einheit verfügt über eine fortgeschrittene Waferstufe und eine Wafer-Scanner-Maschine. Diese beiden Komponenten arbeiten zusammen, um Präzision während des gesamten Lithographieprozesses zu gewährleisten. Das Wafer-Scan-Tool ist in der Lage, die Stufen zur Positionierung und Ausrichtung zu bewegen, um eine möglichst genaue Strukturierung zu ermöglichen. Dieses Scan-Asset hilft auch, die Bearbeitungszeit für jeden Wafer zu reduzieren. Der 3. Verfahrensschritt besteht darin, den Wafer in einem Photolackmaterial zu beschichten. Dieses Material ist empfindlich gegen UV-Licht, so dass, wenn es belichtet, nur bestimmte Bereiche des Wafers ausgesetzt bleiben. Dieses Verfahren kann verwendet werden, um Muster mit mehr Detail als die vorherige binäre optische Maske, wie feine Linien und kleine Merkmale zu erstellen. TOKYO ELECTRON ACT 8 bietet Benutzern die Möglichkeit, komplexe Halbleiterdesigns schnell, genau und präzise zu erstellen. Dieses Modell ist perfekt für eine Vielzahl von Branchen und Anwendungen, einschließlich Automobil-, Telekommunikations- und Unterhaltungselektronik. Seine Genauigkeit und Effizienz ermöglichen die Herstellung hochzuverlässiger und komplexer Halbleiterteile.
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