Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9284114 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung für fortgeschrittene Photolithographie-Anwendungen. Es ist eine fortschrittliche Maskenausrichtung und hochpräzise Photolithographie-Ausrüstung, die eine Kombination aus einer Maskenausrichtungs-Overlay und fortschrittlicher Photoresist-Technologie verwendet. Das System umfasst zwei Spitzentechnologien; die Maske Alignment Overlay (MAO) und die Photoresist Chemie und Optimierung (PCE). Das Mask Alignment Overlay (MAO) ist eine Schlüsseltechnologie, die in Kombination mit Elektronenstrahl (EB) -Maskenausrichtungssystemen verwendet wird, um Schichten aus Photolackmaterial genau auf ein Wafersubstrat auszurichten. Der MAO richtet jede Schicht mit einem schnellen und einfachen Prozess aus, der eine präzise Genauigkeit auch in den am engsten tolerierten Komponenten ermöglicht. Die Photolackschicht kann durch die MAO-Einheit fein abgestimmt werden, wodurch die Dosimetrie des Photolackmaterials optimiert und eine mögliche Überbelichtung während des Lithographieprozesses reduziert wird. Die Photoresist Chemistry and Optimization (PCE) Maschine bietet eine präzise Kontrolle über die Chemie eines bestimmten Lithographieprozesses, so dass vorprogrammierte Rezepte und angepasste Lithographieparameter in das Werkzeug eingegeben werden können. Dies ermöglicht eine einfache Optimierung der Photolackschicht und ermöglicht die Zugabe maßgeschneiderter Dosen einer bestimmten Photolackverbindung vor der EB-Maskenausrichtung. TEL ACT 8 bietet Halbleiterherstellern und Forschern vielfältige Vorteile. Es ermöglicht die Optimierung von Photolackschichten innerhalb eines Einmasken-Aligner-Wafers für reduzierte Belichtungszeit und verbesserte Genauigkeit. Die PCE-Anlage ermöglicht eine einfache und präzise Steuerung der Photolackchemie für maßgeschneiderte Dosen einer bestimmten Photolackverbindung. Dies führt zu überlegener Wiederholbarkeit und Durchsatz sowie reduzierten Kosten in Fertigungszyklen. Um TOKYO ELECTRON ACT 8 in vollem Umfang nutzen zu können, ist es notwendig, seine Vorteile und Fähigkeiten zu verstehen. Das Modell bietet eine erhöhte Genauigkeit und Präzision bei der Ausrichtung von EB-Masken und seine ausgeklügelte MAO-Technologie ermöglicht eine optimierte Dosimetrie des Photolackmaterials. Seine optimierten Rezepturen und PCE-Geräte ermöglichen eine einfache Kontrolle der Photoresist-Chemie, was zu einer verbesserten Reproduzierbarkeit und Durchsatz führt und letztlich langfristige Kosten senkt.