Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9288585 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung für präzise Photolithographie. Es ist ein anpassbares System, das Anwendern eine optimale Sichtbarkeit und Kontrolle über ihren Produktionsprozess ermöglicht. Das Gerät verfügt über eine eigene proprietäre Photolacklösung, die ein wesentlicher Bestandteil des Photolithographieverfahrens ist. Diese Lösung hilft dem Anwender, den Fotolack gleichmäßig über das Zielmaterial aufzutragen, um ein gleichmäßiges und genaues Ergebnis zu erzielen. Herzstück der Maschine ist ein proprietärer Laserscanner, der höchste Präzision und Geschwindigkeit bietet. Es hat eine verstellbare Bühne, mit der Fähigkeit, es perfekt auf jede Substratgröße auszurichten. Der Laserstrahl wird auf eine extrem schmale Breite fokussiert, so dass feine Muster genau auf das Zielmaterial geschrieben werden können. Das Werkzeug verfügt zudem über eine patentierte automatische Größenanpassungsfunktion, die sicherstellt, dass die Belichtung genau auf die Zielform abgestimmt ist. Das Asset wird durch ein integriertes Mehrfachexpositionsmodell weiter verbessert. Dies ermöglicht es Benutzern, das gleiche Muster mehrmals mit unterschiedlichen Belichtungseinstellungen zu belichten. Mit dieser Ausrüstung entfällt die manuelle Musteranpassung, die jedes Mal konsistente Ergebnisse gewährleistet. Das System umfasst auch eine patentierte Verriegelung aus dielektrischem Material, die zur Befestigung des Fotolacks auf dem Substrat ausgelegt ist. Dadurch wird sichergestellt, dass der Photolack während des Belichtungsprozesses fest mit dem Substrat verbunden bleibt. Darüber hinaus verfügt die Einheit über eine programmierbare digitale Kippmaschine, die dafür sorgt, dass der Fotolack gleichmäßig über das Substrat verteilt ist. Das Werkzeug verfügt zudem über einen umfassenden Satz von Temperatur- und Feuchtigkeitssensoren. Auf diese Weise können Benutzer die Temperatur und Feuchtigkeit einfach überwachen und anpassen, um die genauen Bedingungen zu erreichen, die zu der gewünschten Auflösung und Klarheit der Muster führen. Schließlich beinhaltet der Vermögenswert auch ein eigenes, in sich geschlossenes Widerstandsmodell. Diese Anlage entfernt den Photolack nach der Belichtung vom Substrat, was zur Bildung des Musters führt. Das System ist mit Sensoren ausgestattet, um sicherzustellen, dass der präzise Druck auf das Substrat ausgeübt wird, um die optimalen Resistabtragungsergebnisse zu erzielen. Insgesamt ist TEL ACT 8 eine fortschrittliche Photolackeinheit, die für die präzise Photolithographie entwickelt wurde. Die Kombination aus proprietärer Photoresist-Lösung, Laser-Scanner, Mehrfachbelichtungsmaschine und Resist-Entwicklungswerkzeug gibt ihm die Möglichkeit, die Ergebnisse höchster Qualität in kürzester Zeit zu liefern.