Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9289040 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8
ID: 9289040
(4) Coater / (2) Developer system Dual block Right to left wafer flow Block 1: Type 3 controller (16) RDS Resist pumps Block 2: 2-1, 2-2 Standard COT: (4) Resist nozzles With (4) RDS resist pumps 2-3, 2-4 TCT Unit (Top ARC): (4) Resist nozzles With (4) RDS resist pumps (2) Adhesion Process Stations (ADH ) (4) Chiller Plate Places (CPL) (7) Low Temperature Hot Plate stations (LHP) (4) High Temperature Hot Plate Process Stations (HHP) (2) Cup Washer Holders (CWH) Transition Stage (TRS) Transition Chill Plate (TCP) Block 3: Unit / Nozzle qty / Nozzle type 3-1 DEV Unit / (1) / SH Nozzle 3-2 DEV Unit / (1) / SH Nozzle 3-3 DEV Unit / (1) / SH Nozzle 3-4 DEV Unit / (1) / SH Nozzle (6) High Precision Hot Plates (PHP) (8) Low Temperature Hot Plate stations (LHP) (4) Chiller Plate Places (CPL) Block 4: ASML PAS 5500 DUV Stepper / Scanner Wafer Edge Exposure (WEE) (2) External chemical supply cabinets (2) Thermo controller units AC Power unit.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine präzise und genaue Verarbeitung für hochauflösende Funktionen in der Optoelektronik, Datenspeicherung, Kommunikation und anderen Anwendungen ermöglicht. Es kombiniert Photolithographie-Technologie mit einem aktiven Lasersteuerungssystem, um überlegene Leistung und Durchsatz zu bieten. Das Gerät wurde entwickelt, um hohe Genauigkeit und kostengünstige optische Prozesse wie Präzisionsschrittwiederholung, Ausrichtung, Bildzoomen und andere Anwendungen zu ermöglichen. Die Maschine umfasst ein Teilsystem zur Materialhandhabung, eine Steuerung, eine Optik und eine Laserquelle. Das Materialhandhabungs-Subsystem bewegt die Probe vom Eingang zum Ausgabefach und der Regler dient zur Einstellung der Laserquelle und zur Manipulation der Optik. Das optische Teilsystem umfasst eine Feldlinse, einen Umlenkspiegel, eine Fokussierlinse, ein Beugungsgitter erster Ordnung und neutrale Dichtefilter, mit denen die Belichtungsdosis eingestellt werden kann. Die Laserquelle umfasst typischerweise einen Argonfluorid-Excimerlaser, einen Ultraviolettdiodenlaser oder einen Blaudiodenlaser. TEL ACT 8 hat einen Durchsatz von bis zu 3.000 Wafern pro Stunde bei einer Mindestfeldgröße von 5 Mikrometern. Es verfügt über eine hohe Ausrichtungsgenauigkeit mit einer Wiederholbarkeit von ± 5 Mikrometern und einer Bildzoomfähigkeit von 10 bis 500 ×. Das hybride Ausrichtungstool ermöglicht es Anwendern, sowohl manuelle als auch automatisierte Ausrichtungen durchzuführen. Die Anlage ist für eine breite Palette von Substraten konzipiert, darunter Dick- und Dünnschichtsubstrate sowie Glas und Quarz. Das Modell ist auch für eine einfache und intuitive Bedienung ausgelegt. Es unterstützt eine grafische Benutzeroberfläche (GUI) zur Prozesssteuerung mit schrittweisen Anweisungen. Die GUI bietet auch Informationen über Ausrichtungsgewinne, Status des Prozesses und Geräteeinstellungen. Das System enthält auch eine Sensor-Rückkopplungseinheit zur Überwachung der Probenpositionierung, um eine optimale Leistung zu gewährleisten. Die Maschine ist robust und zuverlässig gestaltet, mit automatischer Funktionalität wie Selbstdiagnose und Selbstkorrektur. Es enthält auch Funktionen wie Fehlerprotokollierung und -berichterstattung. Das Werkzeug ist werkseitig kalibriert und bietet eine geringe Drift und gute Wiederholbarkeit. Es ist in der Lage, in einer Vielzahl von Temperaturen und Feuchtigkeit zu arbeiten. Die kompakte Bauweise entfällt auf zusätzlichen Luftstrom und Platz und kann in eine Vielzahl von Materialhandhabungssystemen integriert werden.
Es liegen noch keine Bewertungen vor