Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9290883 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Hightech-Photoresist-Ausrüstung, die für die fortschrittliche Photolithographie mit einer Auflösung von Sub-25-Nanometer-Geräten verwendet wird. Das System kombiniert hochpräzise Fähigkeiten aus konventioneller Lithographietechnologie mit einer Reihe leistungsfähiger Automatisierungs- und Robotiktechnologien. TEL ACT 8 verfügt über eine fortschrittliche optische Projektionseinheit mit einer 4X Punkt-zu-Punkt (P2P) -Linse, um eine hochwertige Verarbeitungsgenauigkeit für Sub-25-Nanometer-Geräte zu erreichen. Die maskenlose Lithographie-Fähigkeit der Maschine gehört zu den fortschrittlichsten der Branche. TOKYO ELECTRON ACT 8 beinhaltet TEL Laser Pattern Generator (LPG), der mittels hochauflösender Ausrichtung und Laserpulsen den Ziel-Photoresist selektiv belichtet. Das LPG wurde entwickelt, um die Auflösung und Überlagerungsgenauigkeit zu verbessern und gleichzeitig die Varianz der Linienbreite zu verringern. Das Tool verfügt auch über Mehrfeldnähte, eine innovative Composite-Funktion, die Subauflösungsnähte (CFS) und Stempelnähte (D2D) für große Wafer ermöglicht. Der Scanner von TOKYO ELECTRON ACT 8 eignet sich hervorragend für kritische Teile im Mikromaßstab mit extrem hoher Genauigkeit, dank der Kombination von Photoresist mit bewährten und bewährten TOKYO ELECTRON Steppern und Masken. Es verfügt über ein hochauflösendes Bildverarbeitungsobjekt mit einer Pixelgröße von 1,0 Mikrometern, wodurch es für extrem kleine Funktionen geeignet ist. Der Stepper verwendet einen Wafer-Front-End-Roboter (WFE), um einen schnelleren und zuverlässigen Wafer-Transfer zu gewährleisten und gleichzeitig Kontaminationen zu minimieren. TEL ACT 8 setzt eine Vielzahl von Automatisierungstechnologien ein, um die Modellgeschwindigkeit und den Waferdurchsatz zu optimieren. Die fortschrittliche Full-Wafer-Level-Roboterkopf (FWR) -Ausrüstung ermöglicht High-Speed-Wafer-Handling, während die Autostep-Echtzeit-Multifeld-Belichtung präzise Felder auf dem Wafer gleichzeitig liefert. Die Echtzeit-Feldsynthese (RTFS) sorgt für Genauigkeit und hervorragende Overlay-Ergebnisse. Zusätzlich hat das System eine Rüstzeit von weniger als 5 Minuten und kann in Sekundenschnelle zurückgesetzt werden. Insgesamt ist ACT 8 von TEL/TOKYO ELECTRON ein leistungsstarkes fortschrittliches Photolithographie-Tool, das eine große Kombination von Funktionen und Fähigkeiten für die Bearbeitung von Sub-25-Nanometern bietet. Es kombiniert modernste Bildgebungs- und Automatisierungstechnologien, um eine leistungsstarke Lösung für die Photomaske- und Waferbearbeitung zu liefern. Die schnelle Einrichtung und der minimale Wartungsaufwand machen es zu einer idealen Wahl für Produktionsumgebungen.