Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9294152 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 Photoresist Equipment ist ein revolutionäres Stück bildgebende Technologie, die überlegene Leistung in Bezug auf die bildgebende Genauigkeit und Geschwindigkeit bietet. Es wurde entwickelt, um die Abscheidung und Strukturierung von Polymeren und Fluoromaterialien zu erleichtern, um eine Reihe von fortschrittlichen, High-Tech-Geräten zu erstellen. TEL ACT 8 System ist eine Lithographie-Plattform, die fortschrittliche bildgebende Optik-Technologie verwendet, die präzise Auflösung für mikroelektronische Anwendungen bietet. Das Gerät verwendet eine (HEBS) High Energy Beam Scanning-Technik, um eine schnelle Abtastung von Photolackmaterialien zu ermöglichen. Diese Scantechnik ist in der Lage, Subµm-Auflösungsmuster zu erzeugen. Darüber hinaus bietet TOKYO ELECTRON ACT 8 eine hochwertige bildgebende Auflösung in einer Vielzahl von Lithographiematerialien, die von den anspruchsvollsten Fluorpolymeren bis zu traditionellen Chemikalien reichen. Neben seinen beeindruckenden bildgebenden Fähigkeiten verfügt ACT 8 über eine kompakte zylindrische Maskenbelichtungsmaschine für flexible Musteranwendungen. Dieses Maskenbelichtungswerkzeug umfasst einen hochpräzisen Sechsachsmotor zur präzisen Maskenplatzierung und einen horizontalen und vertikalen linearvariablen Filter für optimale Lichtintensität. TEL ACT 8 bietet zudem eine komfortable Benutzeroberfläche für eine vereinfachte Prozesssteuerung. Seine Onboard-Software gibt dem Betreiber volle Kontrolle über alle Aspekte des Photoplotting-Prozesses und ermöglicht eine schnelle und effektive Fehlerbehebung. Der Bediener kann alle Prozessparameter einfach in Echtzeit überwachen, einschließlich Belichtungslicht, Abtastrate und Lichtintensität. ACT 8 Photoresist Asset ist eine innovative bildgebende Technologie, die eine schnelle und effiziente Herstellung komplexer lithographischer Muster mit hochpräzisen Details ermöglicht. Die fortschrittliche Bildgebungsoptik und die optimierte Benutzeroberfläche machen das Fotoplotting einfacher als je zuvor, während die hochauflösenden Bildgebungsfunktionen eine überlegene Leistung in anspruchsvollen Lithographieanwendungen gewährleisten.