Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9300128 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine von TEL LIMITED (TOKYO ELECTRON) entwickelte Photoresist-Ausrüstung der nächsten Generation. Photoresist ist eine Chemikalie, die bei der Herstellung von elektronischen Bauelementen und lichtempfindlichen Polymeren verwendet wird, um Muster auf einem Substrat zu erzeugen. Photolacksysteme werden in einer Vielzahl von Herstellungsprozessen eingesetzt, von der Photolithographie bis zum Ätzen. TEL ACT 8 verfügt über eine Vielzahl von Funktionen, die es von anderen Photoresist-Systemen unterscheiden. Es ist ein Hochleistungs-Resist-System, das die Verwendung von Bildern und Videodaten aus der Fluoreszenz-Digital-Imaging-Mikroskopie (FDIM) mit einem 8-Zoll-Wafer ermöglicht. Dies bedeutet, dass es präzise Muster mit hoher Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit bilden kann. Es verfügt über eine hochmoderne Reinigungsanlage, die eine effiziente Entfernung von Metallionen und organischen Verunreinigungen ermöglicht. Dadurch werden Reinigungsmängel und Schmutz durch schlechte Spülung reduziert. Die verbesserten Maskenabscheideeigenschaften erleichtern die Steuerung von Linienbreiten sowie Filmdicken. Dies trägt dazu bei, dass der Musterübertragungsprozess von der Photomaske auf das Substrat genau ist. Die Maschine hat auch verbesserte Verarbeitungseigenschaften im Vergleich zu anderen Photoresists, was schnellere Verarbeitungsgeschwindigkeiten ermöglicht. Zusätzlich wurde die maximale Prozesszeit verlängert, was das Risiko von Partikelverunreinigungen und Substratschäden verringert. Die erweiterten Steuerungsfunktionen von TOKYO ELECTRON ACT 8 helfen, genauere Musterfehlstellungen und Linienbreiten zu gewährleisten. Es ist auch in der Lage, Trockenätz- und chemische Prozesse sequentiell zu integrieren, die Produktionsprozesse zu vereinfachen und die Überwachung und Optimierung zu erleichtern. Insgesamt ist TEL ACT 8 ein fortschrittliches Photolackwerkzeug, das Vorteile wie schnellere Bearbeitungsgeschwindigkeiten, verbesserte Reinigungsfunktionen, verbesserte Maskenabscheidungseigenschaften und längere Prozesszeiten bietet. Dies trägt zur Verbesserung der Genauigkeit, Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit von Fehlerreduzierungen und zur Verbesserung der Substratverarbeitung bei. Es ist ein fortschrittliches Gut, das erhebliche Vorteile für die Herstellung und Herstellung elektronischer Bauteile bietet.