Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9311769 zu verkaufen

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TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8
Verkauft
ID: 9311769
(2) Coater / (2) Developer system (4) Uni-cassette stations (2) Chill plate units (2) Adhesion units (9) LHP Transition unit Transition chill plate unit Type 4 ACT controller Number of resist nozzle: (3) Nozzles per COT unit: 2-1, 2-2 COT Nozzle 1: HV Pump (Iwaki HV-115-1) 2-1, 2-2 COT Nozzle 2: RRC Pump (F-T 100-3) 2-1, 2-2 COT Nozzle 3: No pump, no LE tank Developer nozzle Stream nozzle Components: (3) INR-24-264A Circulating pumps (3) INR-244-216C Circulating pump power supplies (2) INR-244-217B CPL Power supply modules Controller: INR-244-218F.
TEL (TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8) ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die von TOKYO ELECTRON entwickelt wurde, um eine effiziente, genaue und zuverlässige Verarbeitung fortschrittlicher Materialien, wie sie bei der Herstellung von Halbleitern, integrierten Schaltkreisen mit hoher Dichte und anderen Elektronikkomponenten verwendet werden, zu ermöglichen. Das System verwendet eine Vielzahl von Technologien für seinen Betrieb, einschließlich Lithographie, UV-Licht-Belichtung und Ätzen. TEL ACT 8 Maschine ist eines der anspruchsvollsten Photolacksysteme zur Verfügung. Es verfügt über eine vollautomatische und benutzerfreundliche Oberfläche, die eine einfache und effiziente Bedienung und Einrichtung ermöglicht. Das Gerät enthält auch eine breite Palette von Zubehör, bietet eine Vielzahl von Funktionen, um genaue und konsistente Ergebnisse zu gewährleisten. Dazu gehören hochpräzise Steuerventile, eine ausgeklügelte Impulssteuerschaltung, ein motorisierter Probenhalter, ein Hochspannungsgenerator, eine Quarzlampenein- und -entnahmemaschine und eine antistatische Steuereinheit. Lithographie wird verwendet, um Photolackbeschichtungen auf Halbleiterscheiben mit ultraviolettem Licht abzubilden. Durch Manipulation der Lichtintensität und des Einfallswinkels kann Photolack genau zu den gewünschten Formen und Mustern auf den Wafern gemacht werden. TOKYO ELECTRON ACT 8 ist mit fortschrittlicher Lithographietechnologie ausgestattet, um eine präzise Steuerung und Positionierung des Lichts zu ermöglichen, was zu hochpräzisen Mustern führt. Das Werkzeug beinhaltet auch ein Durchflussverfahren, das ein schnelles Ätzen von Photolack aus dem Wafer ermöglicht. Mit ihrer Hochgeschwindigkeits- und Hochdruckfähigkeit ist die Maschine in der Lage, ungenutzten Fotolack schnell von der Oberfläche des Wafers abzuätzen. Diese Verfahrensstufe ist wesentlich für die genaue und zuverlässige Herstellung von Schaltungen. TEL ACT 8 Asset umfasst auch eine ultraviolette Licht Belichtung Abschnitt. Die Maschine ist mit einer Quarzlampenquelle und einem ultraschnellen Datenerfassungsmodell ausgestattet, das eine schnelle Belichtung der Wafer mit UV-Licht ermöglicht. Die hocheffiziente Datenerfassungseinrichtung kann die Leistung des Lichts für die weitere Verarbeitung genau messen und speichern. Schließlich ist die Maschine mit einer Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, einschließlich eines antistatischen Systems und eines Gehäuses, das das Personal vor der Exposition gegenüber schädlichen Partikeln schützt. Die antistatische Einheit wurde entwickelt, um das Potenzial für statische Elektrizität zu reduzieren, die den Wirkungsgrad von Photoresist beschädigen oder verringern kann. Zusammenfassend ist ACT 8 eines der fortschrittlichsten verfügbaren Photolacksysteme. Die Kombination aus Lithographie, ultravioletter Lichtbelichtung, Ätz- und Sicherheitsfunktionen macht es zu einem unschätzbaren Werkzeug für die Herstellung fortschrittlicher integrierter Schaltungen. Diese Maschine hilft, die genaue und zuverlässige Herstellung von Halbleitern, integrierten Schaltungen hoher Dichte und anderen Elektronikkomponenten zu gewährleisten.
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