Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9314468 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die speziell für Lithographieanwendungen entwickelt wurde. Sein Hauptziel ist es, eine präzise Steuerung der Resist-Beschichtung auf dem Substrat zur Verfügung zu stellen, die die Belichtung von Mikron-Maßstab-Merkmale wie Kontaktlöcher ermöglicht. Das System besteht aus mehreren Komponenten, die jeweils einen bestimmten Zweck erfüllen. Die Hauptkomponenten sind: Eine Vakuumspur: Diese besteht aus Edelstahl und ermöglicht es dem Substrat, sich durch die verschiedenen Stationen innerhalb der Einheit zu bewegen. Es hilft auch, eine gleichmäßige Resistbeschichtung zu gewährleisten. Eine Wafer-Bestückungsmaschine: Diese verwendet einen Schrittmotor, um das Substrat exakt in einer exakten Position innerhalb des Werkzeugs zu positionieren. Eine Beschichtungskammer: Hier wird der Resist aufgetragen und auf das Substrat gebacken. Die Kammer steuert auch die Umgebungsbedingungen innerhalb der Kammer, um eine gleichmäßige Resistbeschichtung zu erreichen. Resist-Applikator: Der Resist wird mit einem Spin-Coating-Verfahren auf das Substrat aufgebracht. Eine hochauflösende Wärmebildanlage: Dieses Modell ermöglicht die Belichtung von Mikrometer-Funktionen wie Kontaktlöchern. Es besteht aus einem Heizelement und einer Kühlleitung, die sich um das Substrat herum bewegen und die Temperatur genau steuern. Ein Laserstrahl-Belichtungsgerät: Dieses System verwendet einen Laserstrahl, um das Muster auf der Photolackschicht auf dem Substrat zu belichten. Insgesamt ist die Photolackeinheit TEL ACT 8 so konzipiert, dass sie eine zuverlässige und präzise Steuerung der Resistbeschichtung auf dem Substrat ermöglicht und zufriedenstellende Ergebnisse gewährleistet. Mit einer kompakten Stellfläche und einer guten thermischen Steuerung kann die Maschine in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden. Mit seiner hochauflösenden Bildgebungsfähigkeit kann es auch Funktionen im Mikrometermaßstab mit Leichtigkeit freilegen. Das Tool bietet Benutzern auch eine Vielzahl von Einstellungen, um den Prozess für die spezifischen Anforderungen jedes Benutzers zu optimieren. Dies macht es zu einem wertvollen Werkzeug für Lithographieanwendungen und für fortschrittliche Mikrofabrikationsprozesse unerlässlich.