Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9315802 zu verkaufen
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ID: 9315802
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
(3) Coater / (4) Developer system, 8"
Dual block
Controller
Touch panel
(4) Open Cassettes
Transfer arm
RRC Pump: CSB
(3) COT Spins
With (3) Nozzles (2-1, 2-2: COT / 2-3 TCT)
Nozzle for DEV Spin
WEE Unit
IFB Arm
Lamp house
AC Power
(2) SMC Temperature control units
(2) Chemical cabinets
COSAM Cup temperature / Humidity
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung der nächsten Generation, die eine präzise Lithographie und Ätzung im Nanometermaßstab ermöglicht. Es ist Teil einer Produktfamilie, die von TEL und seinem Partner TOKYO ELECTRON entworfen und hergestellt wurde. TEL/TOKYO ELECTRON/TOKYO TEL ACT 8 bietet beispiellose Genauigkeit, Geschwindigkeit und Flexibilität in der Lithographie-Prozesssteuerung. Das System besteht aus einer Lithographie-Haupteinheit, die von einem leistungsstarken digitalen Mediencontroller angetrieben wird. Die Lithographieeinheit ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien zu verarbeiten, darunter Glas, Polyimide, oxidierte Kieselsäure und andere Metalle. Es kann auch verwendet werden, um kritische Ätzprozesse durchzuführen, die eine hohe Präzision erfordern, wie Plasmaätzen, reaktives Ionenätzen und Ionenstrahlätzen. Zu den Hauptkomponenten der Maschine gehören eine digitale Mediensteuerung, Sensoren, Düsen und eine Vielzahl von Prozessinstrumenten. Die Steuerung der Werkzeugparameter, einschließlich Belichtungszeiten, Fokussierungsabstände und Fokuspunkte, obliegt der digitalen Mediensteuerung. Sensoren messen die Oberflächentopographie des Materials, so dass das Gut die gewünschten Belichtungsbedingungen beibehalten kann. Mit den Düsen werden geringe Mengen an Ätz- oder Photolackmaterialien auf die Materialoberfläche abgegeben, wodurch die gewünschten Prozessanforderungen erfüllt werden. Das Modell umfasst auch eine Reihe von Energiequellen und Prozessoptionen. Dies ermöglicht die Bildung von Strukturen und Mustern mit Nanometergenauigkeit. Das Gerät verwendet eine Vielzahl von Energiequellen und Prozessoptionen, darunter einen Mustergenerator, Laserscanner-Systeme, direktes Laserschreiben und Elektronenstrahl-Lithographie. Zusätzlich ist das System mit einer integrierten Helium-Xenon-Beleuchtungseinheit ausgestattet, die eine gleichmäßige Beleuchtung der Probenoberfläche ermöglicht. TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine fortschrittliche, präzise Lithographie- und Ätzmaschine. Es eignet sich für Prozesse wie Mikroelektronik, Optoelektronik, Verpackungen von Medizinprodukten und MEMS-Designs. Es ermöglicht die Herstellung nanoskaliger Strukturen mit außergewöhnlicher Genauigkeit, Geschwindigkeit und Flexibilität. Das umfangreiche Werkzeugset und die zuverlässige Leistung machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für hochpräzise Lithographie- und Ätzanwendungen.
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