Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9357239 zu verkaufen
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ID: 9357239
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Coater / Developer system, 8"
Main frame with controller
Carrier station:
Type: Normal uni-cassette
(4) Cassette stages
Pickup cassette
Coater:
(3) Dispense nozzle with temperature controller for etcher
RRC Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit
Rinse:
(2) Buffer tanks: 3 Liter
PR Suck-back valve
Direct drain
TARC Coater:
(2) Dispense nozzle with temperature controller for etcher
RRC Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath
Rinse:
(2) Buffer tanks: 3 Liters
PR Suck-back valve
Direct drain
Developer:
SH Nozzle
(2) Stream nozzles for DI rinse
(2) Buffer tanks: 3 Liters
Temperature controller
Direct drain
(3) Adhesions:
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
(15) Low Temperature Hot Plates (LHP)
(14) Chill Plates (CPL)
TCP Module
(3) TRS Modules
Wafer Edge Exposure (WEE) module:
Wafer type: Notch, DUV
Notch
DUV
Chemical cabinet 1: Solvent and developer
Chemical cabinet 2: PR and HMDS
(2) TEL OEM Temperature controllers
AC Power box
Interface
Missing parts:
2-1 COT Spin I/O Board
2-4 COT EBR Nozzle tip
2-4 COT EBR Nozzle valve
2-1 Nozzle changer motor
3-2 Shutter cylinder
(2) PRB YASUKAWA Spin motor drivers
2-0 PRA Z-Driver
3-0 PRA Z-Driver
Temperature and humidity controller (For 4 chu)
Hard Disk Drive (HDD)
2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist ein hochmodernes Photoresist-Gerät. Es wurde entwickelt, um branchenführende Präzision und Genauigkeit im Photolithographie-Prozess zu bieten. Die Photolithographie ist ein entscheidender Schritt bei der Herstellung vieler elektronischer Komponenten. Das TEL ACT 8-System verwendet einen hochpräzisen Maskenausrichter, um ein Muster genau auf ein Photolackmaterial zu übertragen. Das Muster wird mit hoher Geschwindigkeit und Genauigkeit auf ein Substratmaterial übertragen. TOKYO ELECTRON ACT 8 verfügt über einen leistungsstarken Schrittmotor und eine proprietäre Steuereinheit. Dies ermöglicht eine schnelle und präzise Ausrichtung der Maske auf das Substrat. Die Auflösung des Maskenausrichters beträgt 25 Nanometer, was eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit bietet. Die Maschine ist auch zur Bildverarbeitung der Maske fähig und kann die Lichtdosis jeder Schicht aufgrund der Komplexität des Musters steuern. ACT 8 ist auch mit einer leistungsstarken Reinraumumgebung ausgestattet. Die Luft wird sehr stark gefiltert und gesteuert. Dadurch wird sichergestellt, dass auch die zerbrechlichsten und kleinsten Bauteile keiner Kontamination ausgesetzt sind. Der Reinraum hilft auch durch die Steuerung der Feuchtigkeit, die für die Steuerung der Belichtungsrate des Fotolacks wichtig ist. TOKYO ELECTRON ACT 8 ist auch mit fortschrittlicher Software ausgestattet, die zur Steuerung des gesamten Werkzeugs verwendet wird. Die Software ist in der Lage, die Belichtung in einer Vielzahl von Mustern zu steuern. Es ist auch in der Lage, die Temperatur des Substrats und der Maske zu steuern, was für die Kontrolle der Schrumpfung des Photolacks wichtig ist. TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist ein hochflexibles und genaues Photoresist-Asset. Es ist in der Lage, qualitativ hochwertige Teile mit hoher Wiederholbarkeit zu produzieren. Der leistungsstarke Motor und die fortschrittliche Software ermöglichen die Herstellung von Präzisionsteilen mit hohem Durchsatz. Die ausgeklügelten Umweltkontrollen sorgen dafür, dass auch die empfindlichsten Komponenten nicht kontaminiert werden. Das Modell ist für die Serienfertigung von Kleinteilen ausgelegt.
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