Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #293592464 zu verkaufen

TEL (TE) TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine „Photoresist“ -Ausrüstung, die in der Mikroelektronikindustrie für die Geräteherstellung verwendet wird. Photoresists sind chemische Formulierungen, die für spezifische Lichtenergien empfindlich sind. Bei Belichtung reagieren die Moleküle im Photolack, was zu einer Veränderung ihres molekularen Zustands führt. Typischerweise werden Photoresists auf Wafern abgeschieden, um spezifische Muster zu erzeugen, und diese Muster können verwendet werden, um großflächige integrierte Schaltungen zu bauen. TEL Clean Track ACT 12 System bietet mehrere Vorteile gegenüber herkömmlichen Photolacksystemen, einschließlich erhöhter Reinigungsleistung, verbesserter Produktivität und saubereren Ergebnissen. Seine Fähigkeit, nach der Exposition Ablagerungen am Ende eines Prozesses zu reinigen ist besonders vorteilhaft. Es ist auch schnell und kostengünstig, in der Lage, hervorragende Ergebnisse in weniger als einem Zehntel der Zeit, die von herkömmlichen Systemen. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist mit einer Spin/Spray Unit ausgestattet, mit der der Photolack unter Vakuum auf den Halbleiterwafer aufgebracht wird. Der Fotolack wird in einen Spin/Sprühbecher gelegt, der ein mit dem Photolack gefüllter hohler Kunststoffbecher ist. Der Becher wird dann auf eine rotierende Spindel gelegt und mit einer entsprechenden Geschwindigkeit gesponnen, um den Photolack gleichmäßig auf dem Wafer zu verteilen. Durch dieses Verfahren wird auch sichergestellt, dass der Photolack über die gesamte Oberfläche des Wafers gleichmäßig verteilt ist, um konsistente Strukturierungsergebnisse zu erzielen. Sobald der Photolack auf den Wafer aufgebracht ist, wird er für die gewünschte Zeit der Lichtquelle in Clean Track ACT 12 ausgesetzt. Die Maschine verfügt über eine Quecksilber-Dampf-Lampe hoher Intensität, die das Licht für die bestmögliche Belichtungsgleichförmigkeit kollimiert. Der Photolack wird dann im gerührten Entwicklerlösungsbad des Werkzeugs entwickelt. Dadurch werden unbelichtete Teile des Photolacks entfernt, wobei ein Muster auf dem Wafer zurückbleibt. Schließlich ist die Anlage mit einem fortschrittlichen Reinigungsmodul ausgestattet, bestehend aus einer Kaskade von Sprühköpfen, die mehrere verschiedene Lösungsmittel dispergieren, um den Rückstand aus dem Wafer genau zu reinigen. Diese automatisierte Reinigungstechnologie liefert hervorragende Reinigungsergebnisse und reduziert erheblich die Zeit und den Arbeitsaufwand, um eine saubere Bandhelligkeit auf dem Wafer zu erzielen. Zusammenfassend ist das Photolackmodell TE TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 eine ideale Lösung für die Geräteherstellung. Es bietet überlegene Reinigungsleistung, verbesserte Produktivität und einen sauberen Wafer, der für den nächsten Schritt in der Geräteherstellung bereit ist. Seine schnelle und kostengünstige Bedienung, kombiniert mit seinen automatisierten Funktionen, machen es zu einer attraktiven Wahl für Halbleiterhersteller.