Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #293604842 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine Photoresist-Stripping-Ausrüstung, die ultrahochdrucksaubere Technologie verwendet. Dieses System ermöglicht die Entfernung von Photolack, ohne das Substrat zu beschädigen und ohne Partikel zu erzeugen. Die Clean Track-Einheit ist in der Lage, Photoresist vom Substrat mit minimalen Schäden aufgrund seiner Ultra-Hochdruck-sauberen Technologie zu entfernen. Dadurch wird sichergestellt, dass das Substrat durch den Reinigungsprozess nicht beeinträchtigt wird. Neben der ultrahochdruckreinigen Technologie nutzt die Maschine eine Reihe von Reinigungsmechanismen, um den Photolack vom Substrat zu reinigen. Dazu gehören ein leistungsstarker CO2-Laser, ein Vernebler zur chemischen Entfernung, ein Waferreiniger zur Partikelentfernung und eine Rührstation für mechanische Einwirkung. Der CO2-Laser kann selektiv ausschneiden und Photolack aus dem Substrat entfernen, ohne die darunter liegende Schicht zu beschädigen. Mit dem Vernebler wird dem Substrat eine geeignete chemische Lösung zugesetzt, um den Photolack zu lösen und für eine vollständige Entfernung zu sorgen. Der Wafer-Reiniger ist so konzipiert, dass alle auf dem Substrat verbleibenden Partikel durch den Reinigungsprozess entfernt werden. Schließlich ermöglicht die Rührstation eine mechanische Wirkung, um den Reinigungsprozess weiter zu erleichtern. Das Clean Track-Tool wurde ebenfalls entwickelt, um eine Automatisierung bereitzustellen, die effiziente und konsistente Ergebnisse ermöglicht. Eine integrierte Steuerung und automatisierte Wafer-Handhabung sorgen dafür, dass der Reinigungsprozess schnell und präzise durchgeführt wird. Darüber hinaus bietet die Vakuumpumpentechnologie eine hohe Entlüftungskapazität und schnelle Trocknungszeiten, wodurch sichergestellt wird, dass der Photolack vollständig von der Oberfläche des Substrats entfernt wird. TEL Clean Track ACT 12 Modell ist eine zuverlässige und effiziente Photoresist Stripping Ausrüstung. Die Kombination aus Ultra-Hochdruck-Reinigungstechnologie und anderen Reinigungsmechanismen bietet ein sauberes, genaues und konsistentes System zur Entfernung von Photolack von Substraten. Durch die Bereitstellung automatisierter, konsistenter Ergebnisse kann die Clean Track-Einheit dazu beitragen, die Effizienz von Photolithographie-Prozessen zu verbessern und es Herstellern zu ermöglichen, qualitativ hochwertigere Substrate herzustellen.