Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #293616493 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine hochpräzise Multi-Prozess-Photoresist-Ausrüstung. Das System verfügt über eine fortschrittliche softwaregesteuerte Umgebung, die die Anwendung fortschrittlicher Photolackprozesse mit hoher Genauigkeit ermöglicht. Dazu wird eine einzigartige optische Steuerungsarchitektur verwendet, die eine sehr präzise Belichtung, Ausrichtung, Dimensionierung und Maskenmessung gewährleistet. Die fortschrittlichen optischen Steuerungssysteme des Geräts ermöglichen es, Anwendungsprozesse mit sehr hoher Genauigkeit abzuschließen. Mit dieser Funktion können Photolackprozesse auf flexiblen Substraten unterschiedlicher Dicke mit hoher Genauigkeit abgeschlossen werden. Dadurch können komplexere und feinere Strukturen geschaffen werden. Darüber hinaus ist die Maschine auch mit einem statischen Schaltwerkzeug ausgestattet, mit dem verschiedene Substrattypen in einer einzigen Maschine gehandhabt werden können. TEL Clean Track ACT 12 ist durch seine Kammersteuerungsfunktionen äußerst zuverlässig und reproduzierbar. Das Asset verfügt über eine schnelle Recovery-Rate und eine Closed-Loop-Steuerung, die konsistente Ergebnisse gewährleistet. Darüber hinaus ist das Modell mit geringem Wartungsaufwand ausgelegt, da es selbstreinigend ist, um Ausfallzeiten zu minimieren. Das Gerät ermöglicht auch eine Vielzahl von Photolackprozessen, wie Spin-Coating, Hot-Plate-Belichtung und Laserbelichtung. Es verfügt auch über ein hochempfindliches Ultraschall-Kopplungssystem, das in der Lage ist, sehr kleine Maßänderungen zu erfassen und genau zu messen, was die Genauigkeit und Genauigkeit verbessert. Darüber hinaus ermöglicht eine einzigartige 2-Achsen-Bildausrichtungseinheit eine genaue Ausrichtung von Bildern. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 eignet sich für eine Vielzahl von Fertigungsanwendungen und -industrien, wie Präzisionselektronik und Halbleiterindustrie. Es bietet die Fähigkeit, hochpräzise Prozesse in einer Vielzahl von Substraten und Oberflächentypen durchzuführen, was es zu einem wesentlichen Werkzeug für viele Photoresist-Anwendungen macht. Darüber hinaus wird die Effizienz des Verfahrens durch das Schutzgehäuse erhöht, das die im Prozess eingesetzte Energie und Chemikalien schont. Dies ermöglicht Kosteneinsparungen bei Energie und Materialien sowie eine höhere Effizienz bei der Lieferung.