Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #293823519 zu verkaufen
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ID: 293823519
Weinlese: 2015
Clean Track
(2) Coater / (0) Developer system
Power supply
Chemical box
Temperature Control Unit (TCU)
Cassette Station Block (CSB):
(3) Loads
Photoresist / Process Additive (PR/PA) Driver Type 4
Spin driver
Direct Current (DC) Boards
Process Resist Bake (PRB) Module:
(2) Coaters
No hot plate
2015 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine präzise Entwicklung und Verwaltung von Dünnschichtgeräteabscheidungsprozessen ermöglicht. Es ist ein Mehrzonensystem, das aus drei Zonen besteht: Vorbehandlung, Verarbeitung und Nachbehandlung. Vorbehandlung ist die erste Zone in der Einheit. In dieser Stufe wird die Vorrichtung zur Verbesserung der Haftung mit einem Hexamethyldisilazan (HMDS) -Verfahren vorbehandelt. Im nächsten Schritt wird eine Kombination von zweistufigen Primern (oder einstufigen Primern) aufgebracht, um die Haftung weiter zu erhöhen und die Oberfläche vor Oxidation oder Korrosion zu schützen. In der Bearbeitungszone wird das Substrat auf die Maschine geladen und mit einem Photolack strukturiert. Photoresist ist ein chemisches Polymer, das durch Röntgenbelichtung gehärtet oder gehärtet wird. Die verwendete Röntgenquelle ist ein Elektronenstrahl-Belichtungswerkzeug vom UG-S1 Typ. Diese Anlage kann die Belichtungszeit, Energie, Sensorauswahl und Flächendeckung steuern. Sobald der Photolack dem Elektronenstrahl ausgesetzt ist, wird er hart und bleibt für die folgenden Abscheidestufen an Ort und Stelle und schützt das Substrat. Die Nachbehandlungszone wird verwendet, um den Resist aus dem Modell zu entfernen. Dies geschieht in einer wässrigen Entwicklerlösung. Diese Lösung löst den Photolack von der Substratoberfläche und lässt die darunterliegenden Schichten und Musterprofile unberührt. Anschließend ist das Substrat bereit, in die Reinraumatmosphäre zurückgeführt und für den nächsten Abscheidungsschritt vorbereitet zu werden. TEL Clean Track ACT 12 ist eine vielseitige und zuverlässige Ausrüstung, die den Abscheideprozess vereinfachen und verwalten soll. Es bietet Anwendern ein präziseres und effizienteres Mittel, Dünnschichtgeräte zu schaffen, indem es ein Drei-Zonen-System mit Photoresistions-Vorbehandlungs-, Verarbeitungs- und Nachbehandlungsstufen bereitstellt. Darüber hinaus bietet es eine Elektronenstrahl-Belichtungseinheit vom UG-S1 Typ, die die Genauigkeit der Photolackmuster weiter erhöht. Diese Maschine ist ein ideales Werkzeug für jede Dünnschichtgeräteproduktion oder Forschungsanwendung.
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